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mr-NIL200-100nm 納米壓印光刻膠 mr-NIL200 系列
- 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
- 品牌其他品牌
- 型號mr-NIL200-100nm
- 所在地武漢市
- 廠商性質(zhì)代理商
- 更新時間2025/6/20 14:36:23
- 訪問次數(shù) 15
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勻膠機(jī),，光刻機(jī)，顯影機(jī),，等離子清洗機(jī),，紫外臭氧清洗機(jī)，紫外固化箱,，壓片機(jī),，等離子去膠機(jī)，刻蝕機(jī),，加熱板
產(chǎn)品亮點(diǎn)
l自粘附特性：無需額外底涂劑（Primer）,，直接適用于硅、藍(lán)寶石等多種基材,，簡化工藝流程,，降低成本。
l高兼容性：專為氣密性硬質(zhì)印章（如石英,、玻璃,、OrmoStamp®）優(yōu)化，確保圖案轉(zhuǎn)移的高保真度,。
l快速光固化：在 320–420 nm 紫外光下高效固化,，氧氣干擾極低，適合工業(yè)化量產(chǎn)環(huán)境,。
l精準(zhǔn)膜厚控制：提供 100 nm,、200 nm,、300 nm 三種標(biāo)準(zhǔn)厚度，支持定制稀釋（推薦稀釋劑 mr-T 1078）,。
為什么選擇 mr-NIL200,？
? Excellence的刻蝕掩模性能：純有機(jī)配方，無硅殘留,，與反應(yīng)離子刻蝕（RIE）工藝Perfection匹配,，實(shí)現(xiàn)高分辨率圖案轉(zhuǎn)移。
? 工藝靈活性：適配主流納米壓印設(shè)備（如 EV Group,、SUSS MicroTec）,，支持低壓力（<100 mbar）壓印，減少缺陷風(fēng)險,。
? 即用型配方：開瓶即用,，旋涂后 60°C 預(yù)烘 3 分鐘 即可進(jìn)入壓印步驟，大幅提升生產(chǎn)效率,。
典型應(yīng)用場景
l半導(dǎo)體器件：納米線,、光子晶體結(jié)構(gòu)的批量制造。
l光學(xué)元件：AR/VR 衍射光柵,、微透鏡陣列的圖案化,。
l生物傳感器：高精度微流控芯片的快速 prototyping。
技術(shù)參數(shù)速覽
特性 | mr-NIL200-100nm | mr-NIL200-200nm | mr-NIL200-300nm |
膜厚（nm） | 100 ± 15 | 200 ± 20 | 300 ± 25 |
動態(tài)粘度（mPa·s） | 1.3 ± 0.2 | 1.4 ± 0.2 | 1.6 ± 0.2 |
折射率（589 nm） | 1.435 | 1.438 | 1.441 |
使用須知
l存儲條件：需冷藏保存（4°C）,，使用前恢復(fù)至室溫,，避免冷凝污染。
l安全環(huán)保：無鹵素溶劑,，廢棄按有機(jī)溶劑處理,，符合環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。
l后處理：殘余層可通過 O? 等離子體 或 熱硫酸（Piranha） Thorough去除,。
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