化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>納米壓印設(shè)備>mr-NIL210-100nm 納米壓印光刻膠mr-NIL210系列
mr-NIL210-100nm 納米壓印光刻膠mr-NIL210系列
- 公司名稱(chēng) 邁可諾技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) mr-NIL210-100nm
- 產(chǎn)地 德國(guó)
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/6/20 13:52:35
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 15
聯(lián)系方式：鄧經(jīng)理13681069478 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,，謝謝!
勻膠機(jī)，光刻機(jī),，顯影機(jī),，等離子清洗機(jī)，紫外臭氧清洗機(jī),，紫外固化箱,，壓片機(jī)，等離子去膠機(jī),，刻蝕機(jī),，加熱板
產(chǎn)品概述
mr-NIL210系列是一款專(zhuān)為軟紫外納米壓印技術(shù)（soft UV-NIL）設(shè)計(jì)的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類(lèi)軟質(zhì)印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）,。其高精度,、易操作的特性，使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料,。
核心優(yōu)勢(shì)
1. 兼容性
l 適用于硅,、二氧化硅、玻璃,、藍(lán)寶石等多種基材,，搭配專(zhuān)用底涂劑（如mr-APS1或Omnicoat）可進(jìn)一步提升附著力。
l 支持PDMS,、PFPE等軟質(zhì)印章,，以及硬質(zhì)聚合物印章（如OrmoStamp®），滿(mǎn)足多樣化工藝需求,。
2. 高效光固化性能
l 紫外光波段（320–420 nm）下快速固化,，氧氣環(huán)境影響極低,。
l 推薦曝光劑量>1 J/cm2，支持汞燈或UV-LED光源（365–405 nm）,，固化速度隨光強(qiáng)提升而加快,。
3. 精準(zhǔn)的膜厚控制
l 提供100nm、200nm,、500nm三種標(biāo)準(zhǔn)厚度型號(hào),，旋涂工藝穩(wěn)定（3000 rpm，30秒）,，公差范圍小,。
l 支持定制稀釋?zhuān)ㄍ扑]稀釋劑mr-T 1078），可靈活調(diào)整膜厚至更低范圍,。
4. 工藝友好性
l 預(yù)烘條件溫和（60°C,，3分鐘），減少溶劑殘留,。
l 殘膠去除簡(jiǎn)便：氧氣等離子體或濕法剝離（如piranha溶液）均可高效清除,。
5. 高可靠性
l 無(wú)硅純有機(jī)成分，固化后形成熱固性聚合物網(wǎng)絡(luò),，穩(wěn)定性強(qiáng),。
l 存儲(chǔ)方便（15–25°C），保質(zhì)期6個(gè)月,。
典型應(yīng)用場(chǎng)景
l 半導(dǎo)體器件制造：高分辨率圖案轉(zhuǎn)移,，適用于納米級(jí)結(jié)構(gòu)蝕刻。
l 光學(xué)元件加工：藍(lán)寶石等硬質(zhì)基材上的微納結(jié)構(gòu)制備,。
l 科研與教育：軟UV-NIL技術(shù)研究及原型開(kāi)發(fā),。
技術(shù)參數(shù)速覽
特性 | mr-NIL210-100nm | mr-NIL210-200nm | mr-NIL210-500nm |
膜厚（nm） | 100 ± 15 | 200 ± 20 | 500 ± 25 |
動(dòng)態(tài)粘度（mPa·s） | 1.4 ± 0.2 | 1.7 ± 0.2 | 2.9 ± 0.5 |
折射率（589 nm） | 1.515 ± 0.002 | 1.515 ± 0.002 | 1.517 ± 0.002 |
采購(gòu)中心
化工儀器網(wǎng)