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PECVD沉積

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Minilock-Orion III PECVD

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地香港特別行政區(qū)

更新時間：2024-06-17 16:46:47瀏覽次數(shù)：2644次

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PECVD沉積可選配一個三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源,。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,，從而控制薄膜應力,。
　　PECVD沉積
 
　　Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)系統(tǒng),。 系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm,，且根據(jù)電極配置,，可以處理單個基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸),，或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”),。
 
　　Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物,、氮氧化物,、氮化物、無定形硅和碳化硅,。工藝氣體：100%硅烷,、氨、TEOS,、二乙基硅烷,、氧化亞氮、氧、氮,、*基硅烷和甲烷,。
 
　　該系統(tǒng)可選配一個三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,，從而控制薄膜應力,。
 
　　基片通過預真空室裝入工藝室，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸,，從而提高了用戶的安全性,。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而保持反應室與大氣隔絕,。
 

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