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當(dāng)前位置：德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司>>產(chǎn)品展示>>Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應(yīng)力薄膜,。該系...
PECVD沉積可選配一個三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源,。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,，從而控制薄膜應(yīng)力,。
Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
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