一,、產(chǎn)品概述：

Nikon S308F 掃描式光刻機(jī)是一款高性能的設(shè)備，專(zhuān)為先進(jìn)半導(dǎo)體制造而設(shè)計(jì),，適用于 300mm 晶圓的生產(chǎn),。該機(jī)型采用了先進(jìn)的掃描技術(shù)和高分辨率光學(xué)系統(tǒng)，能夠?qū)崿F(xiàn)精準(zhǔn)的圖案轉(zhuǎn)移,，滿(mǎn)足現(xiàn)代集成電路和微機(jī)電系統(tǒng)的制造需求,。其快速的曝光速度和高生產(chǎn)效率使其適合大批量生產(chǎn)，同時(shí)用戶(hù)友好的操作界面和自動(dòng)化功能也降低了操作難度,。憑借其穩(wěn)定性和可靠性,，Nikon S308F 在復(fù)雜的制造環(huán)境中表現(xiàn)出色，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè),。

二,、設(shè)備用途/原理：

該設(shè)備以其高分辨率和高效的曝光能力,，確保了在先進(jìn)制造領(lǐng)域的應(yīng)用,。該設(shè)備利用高強(qiáng)度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。首先,，光源發(fā)出特定波長(zhǎng)的光線,，通過(guò)高分辨率的光學(xué)系統(tǒng)，掃描掩模并將其圖案精確投影到晶圓上,。曝光后,，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化,，接著進(jìn)行顯影過(guò)程，去除未曝光或已曝光的光刻膠,，形成所需圖案,。隨后，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上,，最后去除殘留的光刻膠,。通過(guò)這種方式，Nikon S308F 能夠高效地實(shí)現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移,，滿(mǎn)足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的需求,。

三、主要技術(shù)指標(biāo)：

四,、設(shè)備特點(diǎn)

Nikon S308F掃描式光刻機(jī)

光源波長(zhǎng)193nm

分辨率優(yōu)于0.07µm

主要用于4寸,、6寸、8寸及12寸生產(chǎn)線

廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體,、MEMS,、LED等域