托托科技無掩模光刻機核心功能介紹

托托科技推出的無掩模光刻機,，以其革命性的技術(shù)革新，為微電子、集成電路等制造領域帶來了靈活性和高效率。無論是在科學研究,、定制化生產(chǎn)、快速原型制造,，還是在電子器件,、生物醫(yī)藥、光學元件,、微機械等眾多領域,，我們的無掩模光刻機都能提供解決方案。

靈活設計無需掩模版

與傳統(tǒng)的有掩模光刻相比,，無掩模光刻機更加靈活便捷,，省去了制版的時間和金錢成本，幫助您快速驗證想法

功能描述：與傳統(tǒng)有掩模光刻相比,，無掩模光刻技術(shù)無需預先制作掩模版,，直接通過光刻設備進行圖案生成。這種技術(shù)省去了掩模版的制作時間和成本,，同時避免了掩模版在運輸,、存儲過程中可能出現(xiàn)的損壞風險。

技術(shù)原理：無掩模光刻通常采用激光直寫,、DMD（數(shù)字微鏡器件）投影等技術(shù),，通過精確控制光源和光路，直接在光刻膠上形成所需圖案,。

應用場景：

快速原型制作：在研發(fā)階段,，用戶可以快速驗證設計，無需等待掩模版的制作,。

小批量生產(chǎn)：對于個性化或定制化需求,，無掩模光刻可以靈活調(diào)整圖案，無需更換掩模版,。

科研實驗：科研人員在進行探索性實驗時,，可以隨時修改設計，提高實驗效率,。

優(yōu)勢：

提高了設計靈活性,，縮短了從設計到制造的時間。

降低了成本,，特別是對于多品種,、小批量生產(chǎn)場景。

適合于復雜圖案和頻繁設計變更的場景,。

加工精度可達400 nm

加工精度1 μm可以滿足大多數(shù)加工需求,，針對精度要求更高的用戶，我們提供加工精度可達400 nm的產(chǎn)品供您選擇

功能描述：設備提供兩種精度選擇,，標準精度為1 μm,，滿足大多數(shù)加工需求；對于更高精度要求,，設備支持400 nm的加工精度,。

技術(shù)原理：高精度加工通常依賴于短波長光源（如紫外光）和聚焦光學系統(tǒng)，確保光刻圖案的分辨率和清晰度,。

應用場景：

半導體行業(yè)：用于制造集成電路中的微小結(jié)構(gòu)。

微光學器件：如衍射光學元件,、微透鏡陣列等,。

生物芯片：用于制造微流控芯片和生物傳感器。

優(yōu)勢：

滿足制造對微納結(jié)構(gòu)高分辨率的要求,。

提供多種精度選擇,，適應不同用戶需求。

速度高達1200 mm²/min

對于大尺寸樣品的加工來說,，效率變得尤為重要,，我們將為您供高速高精度的設備來滿足您的需求

功能描述：設備在大尺寸樣品加工時，可以實現(xiàn)高達1200 mm2/min的加工速度，顯著提升生產(chǎn)效率,。

技術(shù)原理：高速加工通常依賴于高效的曝光系統(tǒng)和優(yōu)化的掃描路徑算法,，確保在保證精度的同時提高加工速度。

應用場景：

大尺寸基板加工：如大面積的PCB板,、平板顯示基板等,。

工業(yè)生產(chǎn)：適用于大批量、快速生產(chǎn)的需求,。

優(yōu)勢：

縮短了加工周期,，提高了生產(chǎn)效率。

特別適合需要快速交付的場景,。

加工幅面可達2 m²

如果您是有超大幅面加工需求的用戶,，我們可提供加工幅面達2 m² 的產(chǎn)品來滿足您的需求

功能描述：設備支持2 m2的加工幅面，滿足超大幅面加工需求,。

技術(shù)原理：大加工幅面通常需要高精度的運動控制系統(tǒng)和穩(wěn)定的光學系統(tǒng),，確保在整個幅面范圍內(nèi)都能保持一致的加工質(zhì)量。

應用場景：

大型光學器件：如太陽能電池板,、大面積顯示屏等,。

工業(yè)制造：用于大型機械部件的表面處理。

優(yōu)勢：

適應多樣化的大尺寸加工需求,。

提供了一次性加工大幅面圖案的能力,，減少拼接誤差。

灰度光刻可達4096階

4096階的灰度能力,，能夠精準地在光刻材料上構(gòu)建出具有高度復雜且細膩層次變化的微觀結(jié)構(gòu)或圖案,，為微納制造領域帶來工藝精度與豐富的設計可能性

功能描述：設備支持4096階灰度光刻，能夠在光刻材料上構(gòu)建高度復雜且細膩的微觀結(jié)構(gòu)或圖案,。

技術(shù)原理：灰度光刻通過精確控制曝光劑量,，實現(xiàn)不同灰度層次的光刻效果，從而在光刻膠上形成具有高度層次感的結(jié)構(gòu),。

應用場景：

微光學元件：如菲涅爾透鏡,、微透鏡陣列等。

微機電系統(tǒng)（MEMS）：用于制造具有復雜三維結(jié)構(gòu)的微機械部件,。

優(yōu)勢：

提供了豐富的設計可能性,，能夠?qū)崿F(xiàn)復雜的三維結(jié)構(gòu)。

減少了傳統(tǒng)多層光刻工藝的復雜性,，提高了制造效率,。

托托科技的光刻設備通過無掩模設計、高精度加工,、高速掃描,、大加工幅面以及灰度光刻等核心功能,，為微納制造領域提供了全面的技術(shù)支持。這些功能不僅提升了設備的靈活性和加工效率,，還顯著降低了生產(chǎn)成本,，廣泛應用于半導體、光學材料,、生物芯片,、精密加工等多個領域,。這些技術(shù)的結(jié)合,，使得設備能夠滿足從快速原型到大規(guī)模生產(chǎn)的多樣化需求，為科學研究和技術(shù)創(chuàng)新提供了強有力的支持,。