高速版無掩模光刻機（Speed系列）是一款針對小批量生產(chǎn)制造需求而設(shè)計的光刻設(shè)備。

特征尺寸1μm：Speed系列無掩模光刻機具備1μm的高精度特征尺寸,，滿足了高精度圖案加工的需求,，適用于各類精細電子元器件的生產(chǎn)。

8英寸光刻面積：設(shè)備支持8英寸（200mm）的光刻面積,，適用于多種尺寸的晶圓和基板,，具有較高的通用性。

高速掃描光刻：采用高速空間光調(diào)制器和高功率紫外激光器,，實現(xiàn)高速掃描光刻,，大幅提高生產(chǎn)效率。

無掩模光刻技術(shù)：摒棄傳統(tǒng)掩模版,，直接通過計算機生成的光束進行光刻,，節(jié)省了掩模版制作時間和成本，提高了生產(chǎn)靈活性,。

高效生產(chǎn)：Speed系列無掩模光刻機具備高速光刻能力,，適用于小批量、多品種的生產(chǎn)模式,，大大縮短了生產(chǎn)周期,，提高了生產(chǎn)效率。

靈活性強：無掩模光刻技術(shù)使得設(shè)備能夠快速更換產(chǎn)品圖案,，滿足多樣化生產(chǎn)需求,，降低了生產(chǎn)成本,。

節(jié)省成本：無需制作掩模版，降低了生產(chǎn)過程中的材料成本和設(shè)備投資,。

易于操作：Speed系列無掩模光刻機采用人性化的操作界面,，簡化了操作流程，降低了操作難度,。

環(huán)保節(jié)能：高速光刻技術(shù)減少了能耗,，無掩模光刻技術(shù)降低了廢棄物產(chǎn)生，符合綠色環(huán)保的生產(chǎn)理念,。

廣泛應(yīng)用：Speed系列無掩模光刻機適用于半導(dǎo)體,、MEMS、生物芯片,、光學(xué)器件等領(lǐng)域,，為相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了高效、高質(zhì)量的生產(chǎn)解決方案,。

高速版無掩模光刻機以其性能特點,，為小批量生產(chǎn)制造提供了高效、靈活,、低成本的優(yōu)質(zhì)選擇,，滿足了市場對高效率、高質(zhì)量生產(chǎn)的需求,。