在微電子與集成電路制造領(lǐng)域，精度與效率是永恒的追求,。托托科技自主研發(fā)無掩模光刻機,，以其革命性的高階灰度光刻能力，為行業(yè)帶來了變革,。

一,、重塑光刻工藝

托托科技自主研發(fā)無掩模光刻機融合了激光直寫技術(shù)與DMD無掩模技術(shù)，實現(xiàn)了在材料表面直接進行高精度加工,。這一技術(shù)突破,，讓我們告別了傳統(tǒng)掩模版的束縛，邁入了高效,、靈活的光刻新時代,。

二、核心功能,，彰顯性能

靈活設(shè)計：無需掩模版,，省去制版時間和成本，快速驗證設(shè)計理念,。

高精度加工：400 nm的加工精度,，滿足大多數(shù)高精度加工需求。

高效生產(chǎn)：1200 mm²/min的加工速度,，2 m²的加工幅面,，大幅提升生產(chǎn)效率。

灰度光刻：4096階的灰度光刻能力,，構(gòu)建復雜細膩的微觀結(jié)構(gòu),。

三、特色功能,，提升用戶體驗

直接繪圖：快速實現(xiàn)設(shè)計圖案的繪制,，提高研發(fā)效率,。

精準套刻：綠光指引，實現(xiàn)精準對準,，確保光刻質(zhì)量,。

陣列光刻：快速確認工藝參數(shù)，節(jié)省用戶時間,。

主動對焦：實時對準,，確保光刻聚焦清晰。

四,、廣泛應(yīng)用,，覆蓋多個領(lǐng)域

托托科技無掩模光刻機廣泛應(yīng)用于科學研究、定制化生產(chǎn),、快速原型制造等領(lǐng)域,，為電子器件、生物醫(yī)藥,、光學元件,、微機械等行業(yè)提供高效、靈活的解決方案,。

五,、推動行業(yè)發(fā)展，共創(chuàng)美好未來

托托科技無掩模光刻機的問世,，不僅提升了微電子與集成電路制造領(lǐng)域的精度和效率,，還為行業(yè)帶來了靈活性。我們堅信,，這款產(chǎn)品將助力我國微電子與集成電路制造業(yè)邁向更高水平,，共創(chuàng)美好未來。

托托科技無掩模光刻機——一款創(chuàng)新產(chǎn)品,，為您帶來高效,、精準、靈活的制造體驗,！