光刻機又名掩膜對準曝光機，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設(shè)備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路,，將設(shè)計好的集成電路模板復刻到硅晶圓上,，從而生產(chǎn)出微小,、精確,、高效率的集成電路,。

根據(jù)光刻機的曝光方式,，主要可以分為接觸式光刻機,、接近式光刻機和直寫式光刻機，其中直寫式光刻機又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細分為有掩膜和無掩膜兩種,。無掩膜光刻機是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機,，它通過直接對晶圓進行曝光，實現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品,、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外,，還能實現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）,。無掩膜光刻機不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點,，使其被廣泛應(yīng)用于科學研究,、定制化生產(chǎn)、快速原型制造,、電子器件,、生物醫(yī)藥、光學元件,、微機械等領(lǐng)域,。

科研版無掩膜光刻機

高靈活性、高精度,、無掩膜的優(yōu)勢,，非常適用于科學研究。

ACA系列是科研版無掩膜光刻機,，其基于空間光調(diào)制技術(shù),，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究的選擇,。設(shè)備搭載長壽命,、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定,，上手簡單,。其原位光繪和交互式套刻指引功能,，讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強大的支持,，助力科學研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新,。

ACA無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

ACA Pro無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

ACA Master無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

掃描光刻/步進光刻 可切換

無掩膜光刻機

高速版無掩膜光刻機

更快的加工速度、更強的設(shè)備性能,，適用于小批量生產(chǎn)制造,。

Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其配備了高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器,。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性,，更在這一基礎(chǔ)上，擁有了更高的光刻效率,。其性能特點使其特別適合小批量生產(chǎn)的場景,。在該場景中，它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢,，為生產(chǎn)帶來更高的效率和更好的質(zhì)量,。Speed 系列為相關(guān)產(chǎn)業(yè)提供了更優(yōu)質(zhì)的選擇，滿足了市場對于高效率,、高質(zhì)量生產(chǎn)的需求,。

S無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1μm

8英寸光刻面積

高速掃描光刻

無掩膜光刻機

S+無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.5μm

8英寸光刻面積

支持掃描/步進雙模式

無掩膜光刻機

生命科學無掩膜光刻機

更短的波長、更大的深寬比,，適用于高深寬比的厚膠工藝,。

BIO系列是生命科學版的無掩膜光刻機，該設(shè)備具有更高的深寬比,，能滿足生命科學領(lǐng)域的特殊需求,。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中,，其高深寬比和高靈活性的特點得以展現(xiàn),，可確保芯片的質(zhì)量和性能。這使得它成為生命科學研究和相關(guān)應(yīng)用中的重要工具,。BIO 系列的出現(xiàn)為生命科學領(lǐng)域帶來了新的機遇,，有助于推動相關(guān)技術(shù)的發(fā)展和創(chuàng)新，為科學研究和實際應(yīng)用提供有力支持,。

BIO無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1μm

高深寬比

無掩膜光刻機

教育版無掩膜光刻機

桌面型無掩膜光刻機,，靈活小巧，非常適用于微電子,、集成電路等加工制造的實驗課程,。

TTT-07-UV Litho-Y是一款桌面型無掩膜光刻機，該機器具備了無掩膜光刻機的諸多優(yōu)點，桌面型的設(shè)計使其便于教學使用,。不僅如此,，該設(shè)備還針對教育場景進行了優(yōu)化，簡化操作流程,，讓學生更容易上手。通過該設(shè)備,，學生可更直觀地了解光刻技術(shù),，掌握光刻加工工藝，提升實踐能力,，為未來的科研工作打下基礎(chǔ),。Y在教育領(lǐng)域的應(yīng)用，有助于培養(yǎng)更多優(yōu)秀的科技人才,。

Y無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1.2μm

2英寸光刻面積

桌面型光刻機

無掩膜光刻機