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MicroWriter ML3 直寫光刻機

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上海麥科威半導體技術有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料、半導體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設備的供應商,,所銷售的儀器設備廣泛用于高校,、研究所、以及半導體和微電子領域的高科技企業(yè),。目前總部在上海,,香港,、南通、深圳,、北京分別設立分公司和辦事處,,快速響應客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,,并設立新加坡分公司,,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導體技術有限公司主要銷售產品包括:  - 霍爾效應測試儀,;  - 快速退火爐,;  - 回流焊爐,共晶爐,,釬焊爐,,真空燒結爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機,,熱蒸發(fā)鍍膜機;  - 探針臺,低溫探針臺,,微探針臺,;  - 金剛石劃片機,; - 球焊機,,鍥焊機,;  - 磁控濺射鍍膜機,;  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強原子層沉積設備,;  - 電化學C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統(tǒng),; - 光學膜厚儀,; -貼片機-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓??;-等離子清洗機,、去膠機,;-反應離子刻蝕RIE; - 光刻機,、無掩膜光刻機,; - 勻膠機,; - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器,;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機,、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,激光直寫光刻機),,鍍膜機(磁控濺射機,,電子束蒸發(fā)機,,化學沉積機,,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業(yè)客戶:華為技術有限公司,, 深圳市鵬芯微集成電路制造,, 深圳清力技術, 安徽格恩半導體,, 蘇州稀晶半導體科技,, 矽品半導體, 廈門海辰新能源科科,, 中核同創(chuàng)(成都)科技,, 洛瑪瑞芯片技術(常州),偉創(chuàng)力科技,, 奧普科星河北科技,,廣東五星太陽能,,廣東萬和集團,西安西測股份,, 普源精電科技,, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車,, 北京華脈泰科,, 廣醫(yī)東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子,, 深圳市化訊半導體材料,, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技,, 山東金晶節(jié)能玻璃,, 江蘇云意電氣股份, 廣東風華技股份,, 浙江中能合控股集團,,固安維信諾,淮安天合光能,,浙江老鷹半導體,, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學,, 汕頭大學,, 南方醫(yī)科大學, 清華大學,, 北京大學,, 復旦大學, 西北工業(yè)大學,, 南京醫(yī)科大學,, 香港中文大學, 香港城市大學,, 蘇州大學,, 深圳職業(yè)技術學院, 南京大學合肥國家試驗室,, 上海交通大學醫(yī)學院,, 華南理工大學,華東師范大學,,江南大學,,重慶26所, 深圳大學, 南方科技大學,, 深圳技術大學,, 理化技術研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心,, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院,, 桂林電子科技大學, 上海硅酸鹽研究所,, 中國航天五院,,中科合肥智慧農業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導體設備,,快速退火爐,,原子層沉積,鍵合機,,光刻機

小型臺式無掩膜光刻機- MA1200


小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3是英國公司專為實驗室設計開發(fā),,為微流控、SAW,、半導體,、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應商提供,,但是在研發(fā)環(huán)境中,,掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法,,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

MA1200 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),,具有結構小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),,無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,,高分辨率的特點,。采用集成化設計,全自動控制,,可靠性高,,操作簡便。適用于各種實驗室桌面,。       

                                直寫光刻機         

                                                      

 產品特點 

Focus Lock自動對焦功能
Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,,并通過Z向調整和補償,以保證曝光分辨率。

光學輪廓儀
MicroWriter ML3 配備光學輪廓探測工具,,用于勻膠后沉積層,,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻,。Z向高精度100 nm,,方便快捷。

直寫光刻機

直寫光刻機

標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye”按鈕,,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記,。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置,。

直寫前預檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,,并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置,、角度,,直到設計圖形按要求與已有結構重合,保證直寫準確,。

直寫光刻機

直寫光刻機

簡單的直寫軟件
MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制,。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作,。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行,。

Clewin 掩膜圖形設計軟件
●  可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
●  可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
●  書寫范圍只由基片尺寸決定

直寫光刻機

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