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MicroWriter ML3 直寫光刻機

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,,所銷售的儀器設(shè)備廣泛用于高校,、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè),。目前總部在上海,,香港、南通,、深圳,、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶需求,。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,,并設(shè)立新加坡分公司,輻射東南亞市場,。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測試儀,;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,,共晶爐,,釬焊爐,,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機,,熱蒸發(fā)鍍膜機;  - 探針臺,,低溫探針臺,微探針臺,;  - 金剛石劃片機,; - 球焊機,鍥焊機,;  - 磁控濺射鍍膜機,;  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強原子層沉積設(shè)備,;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler),; - 掃描開爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀,; -貼片機-PECVD\CVD,;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓印,;-等離子清洗機,、去膠機;-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機,、無掩膜光刻機,; - 勻膠機; - 熱板,,烤膠板,; -少子壽命、太陽能模擬器,;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機,、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,,激光直寫光刻機),,鍍膜機(磁控濺射機,電子束蒸發(fā)機,,化學(xué)沉積機,,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業(yè)客戶:華為技術(shù)有限公司,, 深圳市鵬芯微集成電路制造,, 深圳清力技術(shù), 安徽格恩半導(dǎo)體,, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技,, 矽品半導(dǎo)體,, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技,, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),,偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,,廣東五星太陽能,,廣東萬和集團,西安西測股份,, 普源精電科技,, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車,, 北京華脈泰科,, 廣醫(yī)東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子,, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料,, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技,, 山東金晶節(jié)能玻璃,, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份,, 浙江中能合控股集團,,固安維信諾,淮安天合光能,,浙江老鷹半導(dǎo)體,, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué),, 汕頭大學(xué), 南方醫(yī)科大學(xué),, 清華大學(xué),, 北京大學(xué), 復(fù)旦大學(xué),, 西北工業(yè)大學(xué),, 南京醫(yī)科大學(xué), 香港中文大學(xué),, 香港城市大學(xué),, 蘇州大學(xué), 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院,, 南京大學(xué)合肥國家試驗室,, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院,, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),,江南大學(xué),,重慶26所, 深圳大學(xué),, 南方科技大學(xué),, 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所,, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心,, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué),, 上海硅酸鹽研究所,, 中國航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等,。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體設(shè)備,,快速退火爐,原子層沉積,,鍵合機,,光刻機

小型臺式無掩膜光刻機- MA1200


小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3是英國公司專為實驗室設(shè)計開發(fā),為微流控,、SAW,、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案,。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變,。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩膜板的方法,,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

MA1200 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),,具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),,無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,,高分辨率的特點,。采用集成化設(shè)計,全自動控制,,可靠性高,,操作簡便,。適用于各種實驗室桌面。       

                                直寫光刻機         

                                                      

 產(chǎn)品特點 

Focus Lock自動對焦功能
Focus Lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,,并通過Z向調(diào)整和補償,,以保證曝光分辨率。

光學(xué)輪廓儀
MicroWriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具,,用于勻膠后沉積層,,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻,。Z向高精度100 nm,,方便快捷。

直寫光刻機

直寫光刻機

標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye”按鈕,,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記,。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置,。

直寫前預(yù)檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實時調(diào)整位置,、角度,,直到設(shè)計圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準確,。

直寫光刻機

直寫光刻機

簡單的直寫軟件
MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制,。工具欄會引導(dǎo)使用者進行簡單的布局設(shè)計、基片對準和曝光的基本操作,。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行,。

Clewin 掩膜圖形設(shè)計軟件
●  可以讀取多種圖形設(shè)計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
●  可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
●  書寫范圍只由基片尺寸決定

直寫光刻機

直寫光刻機


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