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MKW-200 直寫光刻機(jī)/無掩膜光刻機(jī)
- 公司名稱 上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 MKW-200
- 產(chǎn)地 上海
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/4/26 18:43:02
- 訪問次數(shù) 59
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詳細(xì)介紹
上海麥科威MKW-200是一個高價值的激光直寫光刻機(jī),面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力,。
它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫,。你可以寫任何東西,從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型,,集成相機(jī)可以用來調(diào)整現(xiàn)有的功能寫,。
我們對其進(jìn)行了優(yōu)化,以便于使用和簡單維護(hù),,利用現(xiàn)成的部件,,而不犧牲書寫質(zhì)量或功能,。
直接激光書寫光刻
直接激光光刻技術(shù)通過消除光掩模生產(chǎn)對外部供應(yīng)商的依賴,大大降低了微流體,、微電子,、微機(jī)械和材料科學(xué)研究等領(lǐng)域的成本和執(zhí)行時間。
UV-Writer隨其控制軟件在PC上提供,。它允許您從GDSII文件的單元格或直接從PNG圖像導(dǎo)入要寫入的設(shè)計,。
一切都是通過一個用戶友好的圖形界面來完成的,它允許您在執(zhí)行之前預(yù)覽要編寫的設(shè)計,。
除了對每個設(shè)計應(yīng)用旋轉(zhuǎn),、反射、反轉(zhuǎn)或比例調(diào)整等變換外,,還可以在單個過程中組合多個設(shè)計,。
在確定了設(shè)計方案后,采用了所包含的工作臺控制模塊和共焦顯微鏡,。
使用它們,,您可以設(shè)置基片上工藝的原點位置和感光表面上的焦平面。
接下來執(zhí)行該過程并將設(shè)計寫在表面上,。
技術(shù)指標(biāo):
XY工作臺
典型寫入速度:100-120 mm/s
面積:100x92 mm^2
最小面積:沒有最小面積
單向定位臺階:X=0.16µm,,Y=1.00µm
慢速X軸上的機(jī)械噪聲:<1µm
快速Y軸上的機(jī)械噪聲:<1µm
多層對準(zhǔn)精度:5-10µm(可選旋轉(zhuǎn)臺,便于對準(zhǔn))
實際最小特征尺寸:6-15µm,,取決于特征(示例見下圖)
軟件
支持的格式:PNG、GDSII
在軟件轉(zhuǎn)換:,,旋轉(zhuǎn),、反射、反轉(zhuǎn),、重縮放,、添加邊框
-可以在一個進(jìn)程中編寫來自不同文件的多個設(shè)計
-通過3點線性或4點雙線性聚焦測量進(jìn)行傾斜/翹曲基板補償
-全床曲率補償?shù)木W(wǎng)格型標(biāo)定
光學(xué)
-激光波長:405nm(可選375nm)
-激光聚焦、對準(zhǔn)和檢測用共焦顯微鏡
-二次獨立黃色照明
-激光光斑尺寸可以使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡物鏡改變
精度:
-精細(xì):0.8µm
-介質(zhì):2µm
-粗粒:5µm
大面積包含目標(biāo)的有效書寫速度(單向書寫):
-精細(xì):1.7 mm^2/min
-中等:4.25 mm^2/min
-粗糙度:10.6 mm^2/min
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