光刻機又名掩模對準曝光機,，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設備,。其主要用途是生產集成電路，將設計好的集成電路模板復刻到硅晶圓上,，從而生產出微小,、精確、高效率的集成電路,。
根據光刻機的曝光方式,，主要可以分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機,，其中直寫式光刻機又可以依據其是否需要使用掩模版細分為有掩模和無掩模兩種,。無掩模光刻機是一種不需要使用傳統掩模版的光刻機，它通過直接對晶圓進行曝光,，實現圖案的轉移,，能夠更快速地制造特定產品、降低成本,，除了能夠滿足傳統的2D光刻需求外,，還能實現2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩模光刻機不需要掩模版,、高度靈活的優(yōu)點,，使其被廣泛應用于科學研究、定制化生產,、快速原型制造,、電子器件、生物醫(yī)藥,、光學元件,、微機械等領域。

科研版無掩模光刻機具有高靈活性,、高精度,、無掩模的優(yōu)勢，非常適用于科學研究。

ACA系列是科研版無掩模光刻機,，其基于空間光調制技術,，實現了數字掩模光刻，靈活性使其成為科學研究的選擇,。設備搭載長壽命,、高功率的紫外光源，設備穩(wěn)定,，上手簡單,。其原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準,。ACA系列無掩模光刻機為科研工作提供了強大的支持,，助力科學研究領域的發(fā)展和創(chuàng)新。

ACA無掩模光刻機亮點：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩模光刻機

ACA Pro無掩模光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩模光刻機

 ACA Master無掩模光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

掃描光刻/步進光刻 可切換

無掩模光刻機