一,、產(chǎn)品概述：

Nikon S204B 掃描式光刻機是一款高效的半導(dǎo)體制造設(shè)備，專為 200mm 晶圓的生產(chǎn)設(shè)計,。該機型采用先進的掃描光刻技術(shù),，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和精確的圖案轉(zhuǎn)移，廣泛應(yīng)用于集成電路,、微處理器和存儲器等電子元件的制造,。憑借其快速曝光速度和良好的穩(wěn)定性，S204B 非常適合大批量生產(chǎn)。同時,，其用戶友好的操作界面和自動化功能降低了操作難度,，提升了生產(chǎn)效率，使得 Nikon S204B 成為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造過程中的重要工具,，滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求,。

二、設(shè)備用途/原理：

該設(shè)備通過高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面,。光源發(fā)出特定波長的光線,，經(jīng)過高分辨率光學(xué)系統(tǒng)，精確地掃描掩模并將圖案投影到晶圓上,。曝光后,，光刻膠的化學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化，隨后進行顯影,，去除未曝光或已曝光的光刻膠,，從而形成所需的圖案。接著,，利用刻蝕工藝將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓材料上,，最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟,，Nikon S204B 能夠高效地實現(xiàn)復(fù)雜圖形的精確轉(zhuǎn)移,，滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的高標(biāo)準(zhǔn)要求。

三,、主要技術(shù)指標(biāo)：

四、設(shè)備特點

Nikon S204B掃描式光刻機

光源波長248nm

分辨率優(yōu)于0.18µm

主要用于4寸,、6寸及8寸生產(chǎn)線

廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體,、MEMS、LED等