化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專(zhuān)用儀器>干法工藝設(shè)備>等離子體刻蝕設(shè)備>DISC-RIE-601/801/1201 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE）
DISC-RIE-601/801/1201 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE）
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 北京中科復(fù)華科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) DISC-RIE-601/801/1201
- 產(chǎn)地 北京
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/4/7 8:53:27
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 167
產(chǎn)品標(biāo)簽
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納米圖形發(fā)生器,，離子束刻蝕/反應(yīng)離子刻蝕/感應(yīng)耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜、ALD/MBE/MOCVD 光刻機(jī),、去膠設(shè)備等
應(yīng)用方向：科研與教學(xué)
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：刻蝕速率控制方便,，耐氯基強(qiáng)腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）
產(chǎn)品配置：
★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸
★刻蝕材料：包括并不限于單晶硅,、多晶硅,、SiO2、Si3N4,、Ti,、W,、聚合物等
★刻蝕腔體：高真空系統(tǒng)
★Load-Lock：低真空系統(tǒng) 或 高真空系統(tǒng)。雙片裝,，樣品自動(dòng)運(yùn)送,。
★刻蝕不均勻性：±3%-±6%
★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）
★工作臺(tái)：可升降，包含水冷
★電源配置：下電偏壓,，包含自動(dòng)匹配
★氣路數(shù)量與種類(lèi)：6路氣路,，其中2路耐腐蝕VCR焊接 或 用戶(hù)選配
★He冷背吹系統(tǒng)：可選配
★終點(diǎn)檢測(cè)控制：可選配質(zhì)譜儀
★操作模式：全自動(dòng)+半自動(dòng)控制
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