應(yīng)用方向：科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：效率高+多功能,；垂直濺射+傾斜共濺射

產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：6片Ф2英寸（垂直濺射）+ 1片Ф4英寸（共濺射）

★濺射材料：金屬,；非金屬；化合物等薄膜材料,。

★濺射腔體：高真空系統(tǒng),。

★濺射不均勻性：≤±3%-±5％

★磁控靶：2-4支；可調(diào)角度,；可調(diào)距離

★濺射方向：樣品下置（自上而下濺射）或 樣品上置（自下而上濺射）

★加熱：常規(guī)加熱,，可選高溫加熱

★電源配置：射頻；直流,；直流脈沖,；直流偏壓

★清洗功能：可選配考夫曼離子源

★快速反應(yīng)濺射功能：可選配Speedflo

★膜厚監(jiān)控功能：可選配晶控膜厚在線監(jiān)測(cè)與終點(diǎn)控制

★操作模式：全自動(dòng)+半自動(dòng)控制

類似產(chǎn)品：MSP-300C；MSP-400B

選型參考：樣品在下（MSP-300B）,；樣品在上（MSP-300BT）,；配置考夫曼離子源（MSP-300BI/MSP-300BTI）

應(yīng)用方向：棒狀樣品批量生產(chǎn)

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：棒狀樣品側(cè)壁鍍膜,，立式設(shè)備

產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：30-300根；Ф1mm～Ф30mm,，L30mm～L200mm（依據(jù)靶尺寸和樣品尺寸定制）

★濺射材料：金屬,；非金屬；化合物等薄膜材料,。

★濺射腔體：高真空系統(tǒng),。

★濺射不均勻性：≤±5%-±8％

★磁控靶數(shù)量：2-4支矩形磁控靶 

★磁控靶安裝形式：立式安裝

★樣品夾具：公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)

★加熱：常規(guī)加熱 

★電源配置：射頻；直流 

★清洗功能：可選配離子源清洗,、射頻清洗,、反濺清洗模式

★快速反應(yīng)濺射功能：可選配Speedflo

★膜厚監(jiān)控功能：可選配晶控膜厚在線監(jiān)測(cè)與終點(diǎn)控制

★操作模式：全自動(dòng)+半自動(dòng)控制

類似產(chǎn)品：片狀樣品批量鍍膜（MSP-5100C）