化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>有掩模光刻機(jī)>URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻機(jī)
URE-2000/17/25/35/34AL 紫外光刻機(jī)
- 公司名稱 北京中科復(fù)華科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) URE-2000/17/25/35/34AL
- 產(chǎn)地 成都
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/4/7 10:06:04
- 訪問(wèn)次數(shù) 230
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納米圖形發(fā)生器,,離子束刻蝕/反應(yīng)離子刻蝕/感應(yīng)耦合等離子刻蝕 磁控濺射/氣相沉積/電子束蒸發(fā)鍍膜,、ALD/MBE/MOCVD 光刻機(jī)、去膠設(shè)備等
1. 技術(shù)參數(shù)
l UV光源:進(jìn)口LED模塊
l 曝光中心波長(zhǎng):365nm
l 光源平行性:2o
l ★曝光分辨率:0.8um-1um
l 曝光能量密度:>35mW/cm2可調(diào)
l 照度不均勻性:≤2.5%(∮150mm范圍)
l ★曝光面積:160mm*160mm
l 光源壽命:2萬(wàn)小時(shí)
l 曝光設(shè)定:定時(shí)
l 曝光頭工作模式:曝光位對(duì)準(zhǔn)位自動(dòng)切換(前后移動(dòng))
l 套準(zhǔn)精度:±0.8-1 um
l 可執(zhí)行曝光模式:真空接觸,、硬接觸,、壓力接觸、接近式,,
l 間隙設(shè)定方式:數(shù)字設(shè)定曝光間隙,,自動(dòng)分離和消除間隙
l 樣片、掩模版相對(duì)移動(dòng)范圍:X: ±5mm,, Y: ±5mm,, θ=±6o
l 掩模版找平方式:球氣浮自動(dòng)找平
l 可支持掩模版尺寸: 3″×3″、4″×4″,、5″×5″,、7″×7″ 各一件
l 標(biāo)配承片臺(tái) : 2英寸、3英寸,、4英寸,、6英寸
l 標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度:0.1-6mm,,其他尺寸可定制
l 可設(shè)計(jì)工作厚度:50mm
l ★雙目雙視場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)顯微鏡或者光學(xué)鏡頭+CCD+顯示器:可通過(guò)目鏡目視對(duì)準(zhǔn),也可通過(guò)CCD+顯示器對(duì)準(zhǔn),,光學(xué)合像,,光學(xué)倍數(shù)400倍,光學(xué)+電子放大800倍,,物鏡三對(duì):4倍,、10倍、20倍,,目鏡三對(duì):10倍,、16倍、20倍
l 雙物鏡可調(diào)距離范圍:30mm-120mm
l ★顯微掃描范圍:Y:±40mm(電動(dòng),,數(shù)字設(shè)定)
設(shè)備尺寸:≤700mm