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賽默飛色譜及質(zhì)譜

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iCAP TQ ICPMS分析高純稀土中痕量稀土雜質(zhì)

閱讀：249 發(fā)布時(shí)間：2022-5-23

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"工業(yè)的維生su"

稀土元素被譽(yù)為"工業(yè)的維生su"，具有豐富的磁,、光,、電等特性,，在現(xiàn)代高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)和功能材料中起到了至關(guān)重要的作用。這些材料主要包括稀土永磁材料,、稀土催化材料,、發(fā)光材料、貯氫材料,、磁制冷材料,、光導(dǎo)纖維、磁光存儲(chǔ)材料,、巨磁阻材料,、稀土激光材料、超導(dǎo)材料,、介電材料等,，在航空、航天,、信息,、電子、能源,、交通,、醫(yī)療衛(wèi)生等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。

高純稀土通常是指純度高于99.99%的稀土金屬或其氧化物,。高純稀土材料中存在的其它稀土雜質(zhì)元素常會(huì)對最終產(chǎn)品的功能產(chǎn)生影響,，隨著提煉技術(shù)的不斷改進(jìn)，使得稀土氧化物純度可達(dá)到6N（行業(yè)上通指稀土雜質(zhì)元素含量）,，從而對于痕量稀土雜質(zhì)測定方法提出了更高的要求,。針對高純稀土中的雜質(zhì)檢測會(huì)有下面難點(diǎn)。

主基體的濃度太高,，會(huì)干擾雜質(zhì)元素的檢測

對于高純稀土中的雜質(zhì)檢測,，往往樣品是5N（99.999%）及以上級別含量非常低，需要儀器有足夠高的靈敏度

案例

分析

測定6N級高純稀土氧化釓

(Gd2O3 )中的14種稀土雜質(zhì)

目前氧化釓中稀土雜質(zhì)檢測方法主要依據(jù)國標(biāo)GB/T18115.7中的電感耦合等離子體發(fā)射光譜法( ICP-OES) 和質(zhì)譜法( ICP-MS),。

在ICP-OES分析中,，由于Gd的譜線十分密集，對其他稀土雜質(zhì)元素的譜線干擾非常嚴(yán)重,，測定范圍在0.001%-0.05%之間,，難以滿足更高純度要求。

單桿ICP-MS 質(zhì)譜法具有更低的檢出限,，但Gd具有7個(gè)天然豐度同位素,，當(dāng)采用SQ-ICP-MS方法進(jìn)行氧化釓中其它稀土雜質(zhì)元素分析時(shí)，Yb和Lu將受到嚴(yán)重的[ 152 154 155 156 157 158 160 Gd16 17 18 O]+和[ 152 154 155 156 157 158 160 Gd 16 17 18 OH]+類多原子類干擾,，在現(xiàn)有的GB/T18115.7標(biāo)準(zhǔn)方法中,，針對氧化釓中鐿和镥的測定制定了采用C272柱分離釓基體后再進(jìn)行ICP-MS法測定方案,，各雜質(zhì)元素的最di定量下限可達(dá)0.0001%，能夠?qū)崿F(xiàn)近5N級釓純度的測定,。但這種分離技術(shù)非常費(fèi)時(shí),，步驟繁瑣，對方法測定結(jié)果的影響因素多,。

"賽默飛三重四極桿ICPMS"

賽默飛三重四極桿ICPMS不經(jīng)任何基體分離手段,，能輕松解決高純稀土元素中雜質(zhì)元素檢測的干擾問題，為高純稀土質(zhì)量提供有力質(zhì)量控制手段,。

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實(shí)驗(yàn)測定結(jié)果

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iCAP TQ 三重四極桿ICPMS-高純稀土元素檢測利器

超qiang抗干擾能力

利用 Q1的iMS智能化質(zhì)量篩選功能可有效地將高純稀土基體離子進(jìn)行剔除,，然后通過Q2碰撞反應(yīng)池中加入特定的反應(yīng)氣體，如氧氣或者氨氣,，將待測稀土雜質(zhì)離子或者基體氧化物離子的質(zhì)量數(shù)進(jìn)行遷移,，解決了質(zhì)量數(shù)重疊干擾。

簡單操作

賽默飛Qtegra™ 智能科學(xué)數(shù)據(jù)處理軟件（ISDS™）通過自帶的Reaction Finder 軟件工具,，能夠自動(dòng)為分析任務(wù)確定*測量模式,，幫助用戶方便地建立方法，節(jié)省了日常方法建立所消耗的時(shí)間,。

為全國稀土行業(yè)的客戶提供解決方案

賽默飛采用iCAP TQ ICPMS/MS三重四極桿質(zhì)譜儀無需采用繁雜的分離稀土基體技術(shù),，就能輕松去除基體元素形成的干擾，從而準(zhǔn)確測定稀土雜質(zhì)元素的含量,，為全國稀土行業(yè)的客戶提供解決方案以滿足行業(yè)發(fā)展的迫切需求,。

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