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勻膠機(jī)設(shè)備簡(jiǎn)介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，用于對(duì)均勻性要求較高的表面涂布工藝,，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片,、磷化銦、碳化硅,、氮化鎵,、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12...

MAS4-BE光刻系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元,、烤膠單元,、曝光單元、顯影單元等部分組成,，該設(shè)備針對(duì)高校研究所實(shí)驗(yàn)室,，特點(diǎn)是占地面積小，性價(jià)價(jià)比更高,。整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)...

半自動(dòng)光刻機(jī)產(chǎn)品概述：應(yīng)用于3D封裝,、LED、微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體,、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動(dòng)對(duì)準(zhǔn),、自動(dòng)曝光、LED光源,、機(jī)器視覺(jué)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),、高精度硅片承載...

針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對(duì)均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片,、磷化銦,、碳化硅、氮化鎵,、鈮酸鋰...

設(shè)備簡(jiǎn)介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī),，用于對(duì)均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片,、磷化銦,、碳化硅、氮化鎵,、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...

實(shí)驗(yàn)室無(wú)掩膜曝光機(jī)CG-MLC6系列直寫光刻機(jī)是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù),，無(wú)需掩模 版,，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-ML...

烤膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：熱均勻性：采用單片機(jī)和集成電路板設(shè)計(jì),， 同時(shí)采用密集加熱 管澆灌一體成型,，均勻性更高。體積：外觀小巧精致,，以及超大按鍵更適宜手套箱內(nèi)操作使用耐腐...