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一,、概述 SHD6-BE涂膠顯影系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元,、烤膠單元、顯影單元等部分組成,,該設(shè)備針對高校研究所實驗室,,特點是占地面積小,性價價比更高,。整機(jī)采用框架...
本設(shè)備利用反射干涉的原理進(jìn)行無損測量,,測量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率,同時提供樣品反射率,,測量精度達(dá)到埃級的分辨率,,測量迅速,操作簡單,,界面友好,,測...
UV 光清洗機(jī)擁有工業(yè)級別的清洗效率和效果,采用更簡易操作的抽屜式托盤設(shè)計,,廣 泛應(yīng)用于光伏(鈣鈦礦電池),,半導(dǎo)體芯片(晶圓)和光學(xué)元件及光通訊領(lǐng)域,適用于中小...
HPP-8是針對半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)中晶圓烘烤而設(shè)計的一款產(chǎn)品.采用新穎的數(shù)字式加觸摸屏面板,,精準(zhǔn)的控制熱板表面溫度,;堅固耐腐蝕的鋁合金面板,表面陽極氧化處理,,保障均...
應(yīng)用:在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,,滴注各類膠液,,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān),。應(yīng)用:在...
MAS4-BE光刻系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元,、曝光單元,、顯影單元等部分組成,該設(shè)備針對高校研究所實驗室,,特點是占地面積小,,性價價比更高。整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)...
設(shè)備簡介:桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī),,用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝,,將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦,、碳化硅,、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,,主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...
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