1. 產(chǎn)品概述
RIE-300NR是一種理想的反應離子蝕刻系統(tǒng),，適用于加工?300mm晶圓和多晶圓（?3"×12，?4"×8等）,，具有優(yōu)異的均勻性,。該系統(tǒng)的設計旨在大限度地減少工廠空間需求，提高產(chǎn)量,，大限度地延長正常運行時間,，并通過可靠的硬件和便捷的服務降低擁有成本。
2. 設備用途/原理
去除夾層膜,，用于?300mm的失效分析,。蝕刻Si、SiO2,、SiN和聚硅氧烷,。樹脂的蝕刻和脫膠。光阻劑的灰化,、剝離和除塵,。表面改性（潤濕性和粘附性的改善,。
3. 設備特點
大加工范圍：?350 mm (?3" x 12, ?4" x 8, ?12" x 1)。用戶友好的觸摸屏界面全自動 "一鍵式 "操作,，可手動操作,。優(yōu)化的噴淋頭可提供工藝氣體的均勻性。減少停留時間的近距離耦合氣體輸送箱,。對稱的疏散設計與TMP相結合,，形成了有效的流動。自動壓力控制,，可精確控制工藝壓力,，不受氣體流量影響。干式泵和系統(tǒng)布局便于維護,。
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