1. 產(chǎn)品概述：

RIE-1C 是用于半導(dǎo)體芯片故障分析的小型臺式干式蝕刻系統(tǒng)，可高效,、低損傷地去除鈍化膜,，操作簡便，放置樣品后只需按一下按鈕即可完成整個(gè)過程,，既可以放在桌面上,，也可以選擇使用支架。

2. 設(shè)備應(yīng)用：

· 半導(dǎo)體芯片的故障分析,。

· 去除各種類型的鈍化膜,，如氮化硅、二氧化硅和氧氮化硅等,。

· 光阻劑灰化。

· 各種硅薄膜的蝕刻,，包括硅,、多晶硅等。

· 玻璃基板的表面處理等,。

3. 設(shè)備特點(diǎn)：

· 操作簡單：一鍵式操作,，完成設(shè)備操作流程簡單便捷，方便用戶使用,。

· 設(shè)計(jì)緊湊：節(jié)省空間,，可放置在桌面或通過支架放置，適合空間有限的實(shí)驗(yàn)室或工作場所,。

· 可處理多種材料：能應(yīng)對半導(dǎo)體芯片制造過程中的多種材料的蝕刻需求,。

4. 產(chǎn)品參數(shù)：

· 反應(yīng)室：石英材質(zhì)，尺寸為 212mm,。

· 下電極：鋁材質(zhì),，直徑 120mm，具備水冷功能,。

· 射頻功率：13.56MHz,，200W 晶振頻率，手動(dòng)匹配,。

· 進(jìn)氣管：兩條,。

· 壓力測量：隔膜表（0-2.66×102Pa）,。

· 真空系統(tǒng)：干泵（500L/min）。

· 尺寸：主機(jī)（寬 400mm× 深 440mm× 高 325mm）,；支架（寬 400mm× 深 620mm× 高 798mm）,。