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產(chǎn)品分類品牌分類

納米壓印設(shè)備

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天仁微納

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GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設(shè)備參考價：面議
GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進式紫外納米壓印設(shè)備,，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu),，還可以用于將小面...
型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：青島市對比

納米壓印光刻納米壓印設(shè)備

2025/5/13 14:43:361027
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備參考價：面議
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué),、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計,，功能強大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備,。通過簡單的夾具更換,，可以實現(xiàn)旋涂壓印...
型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：青島市對比

納米壓印光刻設(shè)備納米壓印設(shè)備研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備微透鏡陣列加工工藝

2025/5/13 14:41:10926
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備參考價：面議
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備,，可在200...
型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：青島市對比

納米壓印光刻設(shè)備納米壓印設(shè)備DOE加工工藝

2025/5/13 14:39:08992
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備參考價：面議
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設(shè)備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設(shè)備,，標(biāo)配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuu...
型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：青島市對比

納米壓印光刻設(shè)備

2025/5/13 14:37:061126
GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線參考價：面議
GL300 Cluster全自動納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動納米壓印生產(chǎn)線,，集成了從納米壓印基底清洗,、涂膠、烘烤,、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟,。標(biāo)配天仁微...
型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：青島市對比

納米壓印光刻生產(chǎn)線納米壓印設(shè)備npss加工工藝pss加工工藝

2025/5/13 14:35:271034
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備參考價：面議
UniPrinter研發(fā)型Desktop納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計,，操作簡單,、功能強大的臺面型納米壓印光刻設(shè)備。可實現(xiàn)4英寸...
型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：青島市對比

納米壓印光刻設(shè)備納米壓印設(shè)備

2025/5/13 14:33:11894
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備參考價：面議
GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備產(chǎn)能可大于40片每小時,，適合DOE,、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振,、超透鏡,、生物芯片、LED,、...
型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：青島市對比

納米壓印光刻設(shè)備納米壓印設(shè)備AR衍射光波導(dǎo)加工工藝AR衍射光波導(dǎo)

2025/5/13 14:31:33866
GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備參考價：面議
GL300 MLA全自動紫外納米壓印光刻設(shè)備適用于DOE,、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列,、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。
型號：廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：青島市對比

納米壓印設(shè)備納米壓印光刻設(shè)備閃耀光柵加工工藝

2025/5/13 14:29:101351

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