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目錄:青島天仁微納科技有限責(zé)任公司>>納米壓印設(shè)備>> GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線

GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線
  • GL300 Cluster納米壓印光刻生產(chǎn)線
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 天仁微納
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 青島市
屬性

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更新時(shí)間:2025-05-13 14:35:27瀏覽次數(shù):1034評(píng)價(jià)

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GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線,,集成了從納米壓印基底清洗、涂膠、烘烤,、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟,。標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度(優(yōu)于10nm ),、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn),。

GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線是模塊化的全自動(dòng)納米壓印生產(chǎn)線,集成了從納米壓印基底清洗,、涂膠,、烘烤、冷卻直至納米壓印全套工藝步驟,。標(biāo)配天仁微納CLIV(Contact Litho in Vacuum)壓印技術(shù),,可實(shí)現(xiàn)200/300mm基底面積上全自動(dòng)高精度(優(yōu)于10nm )、高深寬比(優(yōu)于10比1 )納米結(jié)構(gòu)復(fù)制量產(chǎn),。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì),,用戶可以根據(jù)工藝需求和生產(chǎn)節(jié)奏自由配置清洗、涂膠,、烘烤,、冷卻、Plasma表面處理,、AOI檢測(cè),、Post Cure以及壓印的模塊數(shù)量,,達(dá)到生產(chǎn)效率。設(shè)備支持自動(dòng)工作模具復(fù)制,、工作模具自動(dòng)更換,、自動(dòng)預(yù)處理和壓印、自動(dòng)脫模,,整個(gè)工藝過(guò)程在密閉潔凈環(huán)境中進(jìn)行,,以保證壓印結(jié)果質(zhì)量。

GL300 Cluster納米壓印設(shè)備適用于DOE,、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵),、線光柵偏振、超透鏡,、生物芯片,、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的大規(guī)模量產(chǎn),。

主要功能

●全自動(dòng)200/300mm大面積,、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線
●確保壓印結(jié)構(gòu)精度與結(jié)構(gòu)填充完整性
●設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具,,降低大面積納米壓印模具使用成本
●全自動(dòng)預(yù)處理步驟,,包括基材兆聲波清洗、旋涂勻膠,、烘烤,、冷卻
●自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化,、自動(dòng)脫模,,工藝過(guò)程在局部潔凈環(huán)境中自動(dòng)進(jìn)行,以保證壓印質(zhì)量
●標(biāo)配高功率紫外LED面光源(365nm,,光強(qiáng)>1000mW/cm2 ),,水冷冷卻,特殊功率以及特殊,、混合波長(zhǎng)光源可訂制,,支持各種商用納米壓印材料

●產(chǎn)能可大于100片每小時(shí),適合DOE,、AR/VR衍射光波導(dǎo)(包括斜齒光柵),、生物芯片、LED等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)
●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料,,包括DOE,、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程,,幫助客戶零門檻達(dá)到高質(zhì)量的納米壓印水平

GL300 Cluster全自動(dòng)納米壓印光刻生產(chǎn)線設(shè)備照片

相關(guān)參數(shù)

兼容基底尺寸 200mm,、300mm 特殊尺寸可定制
支持基底材料 硅片、玻璃,、石英,、塑料、金屬等
上下片方式 Cassette to cassette全自動(dòng)上下片
晶圓預(yù)對(duì)位 光學(xué)巡邊預(yù)對(duì)位
納米壓印技術(shù) CLIV技術(shù),,適合高精度,、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓
納米壓印預(yù)處理工藝步驟 CLIV技術(shù),適合高精度,、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印,、清洗(毛刷、二流體,、兆聲波),、旋涂勻膠、加熱烘烤,、冷卻、plasma表面處理
壓印精度 優(yōu)于10納米*
結(jié)構(gòu)深寬比 優(yōu)于10比1*
殘余層控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,,光強(qiáng)>200mW/cm2,,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配)
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制 標(biāo)配,外部環(huán)境Class 100,,內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10*
自動(dòng)壓印 支持
自動(dòng)脫模 支持
自動(dòng)工作模具復(fù)制 支持
自動(dòng)工作模具更換 支持
模具基底對(duì)位功能 自動(dòng)對(duì)位(選配)
Post Cure 選配
AOI在線檢測(cè)
選配
產(chǎn)能 可大于100片每小時(shí)*

 

 

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