目錄:深圳市達(dá)瑞博電子有限公司>>光學(xué)儀器及設(shè)備>>薄膜厚度測(cè)試儀>> MP-200薄膜厚度測(cè)試儀
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更新時(shí)間：2024-09-23 20:15:30瀏覽次數(shù)：342評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,綜合 |
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型號(hào): MP-200
制造商: Rudolph
無(wú)接觸金屬厚度測(cè)量
高靈敏度光學(xué)剖面儀
自動(dòng)散射儀
過(guò)程控制系統(tǒng)
晶圓大小: 8"
工作電流: 75 mA for 24 V models; 8 mA for 230 V models
推力: 200 N
冷卻水需求: 最小流量0.79 GPM (3.00 l/m)
最di溫度: 12 C
晶圓測(cè)試和計(jì)量系統(tǒng)
非銅/雙延遲階段,，配備5" Chuck
支持6/8英寸 Chuck
RUDOLPH MP 200薄膜厚度測(cè)試儀是一種專(zhuān)業(yè)級(jí)晶圓測(cè)試和計(jì)量系統(tǒng),，旨在成為任何半導(dǎo)體制造設(shè)施的重要組成部分。它旨在提供準(zhǔn)確性和可追蹤性,，是專(zhuān)門(mén)為方便晶片測(cè)試小螺距和高縱橫比特征而開(kāi)發(fā)的,。該系統(tǒng)采用業(yè)界領(lǐng)xian的高靈敏度光學(xué)剖面儀，使用白光干涉法掃描晶圓表面,。這可以測(cè)量特征的形狀和輪廓,以及它們的相對(duì)位置和大小,。它也被用于在微觀水平上檢查機(jī)械和表面的均勻性,。然后將傳感器的輸出發(fā)送到功能強(qiáng)大且用途廣泛的軟件包中,該軟件包包含幾種高級(jí)算法,可自動(dòng)識(shí)別和測(cè)量小至1納米的特征。MP 200還包括一個(gè)革命性的"獨(dú)立"散射計(jì),，旨在檢測(cè)晶圓表面的自動(dòng)圖形圖像并測(cè)量其大小和形狀。此工具可用于對(duì)晶片表面執(zhí)行更詳細(xì)的檢查,尤其有助于檢查諸如較小面積設(shè)備或高分辨率模式等特征,。最后,，RUDOLPH MP 200還有一個(gè)多傳感器、全自動(dòng)的過(guò)程控制系統(tǒng),，旨在精確監(jiān)控和控制所有可以影響晶圓質(zhì)量的過(guò)程,。這包括加工過(guò)程中的溫度、壓力,、光子和電子束曝光,。總體而言,MP 200是任何半導(dǎo)體制造設(shè)施的寶貴工具,在測(cè)試和測(cè)量晶片時(shí)提供了準(zhǔn)確性和可追蹤性,。它在檢查圖形圖像,、檢測(cè)小到1納米的特征以及在處理過(guò)程中精確監(jiān)控過(guò)程等方面具有高度的通用性。RUDOLPH MP 200具有多種傳感器和強(qiáng)大但用戶友好的軟件包,是晶圓測(cè)試和計(jì)量的可靠有效的解決方案,。
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