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[供應]NXQ4000-紫外掩膜對準曝光系統(tǒng)
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  • NXQ4000-紫外掩膜對準曝光系統(tǒng)
貨物所在地:
香港香港特別行政區(qū)
產(chǎn)地:
美國
更新時間:
2024-11-04 21:00:07
有效期:
2024年11月4日 -- 2025年5月4日
已獲點擊:
340
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產(chǎn)品簡介

美國NXQ以*的性能,,經(jīng)濟的價格,,深受用戶喜愛,截至2016年底,,超過5000臺NXQ曝光系統(tǒng)遍布*科研實驗室,,研發(fā)中心。

詳細介紹

 

美國NXQ以的性能,,經(jīng)濟的價格,,深受用戶喜愛,截至2016年底,,超過5000臺NXQ曝光系統(tǒng)遍布*科研實驗室,,研發(fā)中心,。

 

NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統(tǒng),融合了獨立的模塊化設計,,精準控制對準和曝光等特點,,自動程序控制使得該系統(tǒng)易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用,。

該系統(tǒng)特點:

  • 鍥型誤差補償系統(tǒng)----*的WEC設計

  • 紫外燈源的多樣性選擇

  • 曝光光路的精準控制

  • 視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

  • 高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準

 

使用領域(包括但不限于下述領域的光刻工藝)

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