方塊電阻測量儀 薄膜厚度測量儀 表面缺陷檢測系統(tǒng) 納米壓痕儀 光學(xué)輪廓儀 探針式輪廓儀

接觸角測量系統(tǒng) 光譜反射儀 橢偏儀 薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)

WB-200 半自動引線鍵合機

AT-400原子層沉積

批量型兆聲清洗系統(tǒng)

聲表面波SAW功率發(fā)生器

HMS-3300霍爾效應(yīng)測試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測試儀

等離子刻蝕ICP

高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積

光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

等離子刻蝕ICP

磁體探針臺 低溫探針臺

高真空MEMS焊封機

紫外掩膜對準曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機

快速退火爐

人體運動能耗監(jiān)測儀

Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機 SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機 EM-KLEEN等離子體清洗機 Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機 Tergeo-Pro桌面等離子清洗機 Tergeo-Plus桌面等離子清洗機 Tergeo桌面等離子清洗機 離子源 氣體混配器 多用途樣品清潔及儲存腔室 TEM 樣品架真空泵站

檢測相機 返工工作站 激光疊片機 / 拆片機 劃刻器 MPT手動拉力測試儀 焊線機 芯片鍵合機

集成式 IV 光伏測試系統(tǒng) AML 原位對準晶圓鍵合機 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機