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[供應(yīng)]Trion Orion III PECVD-Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)
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  • Trion Orion III PECVD-Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)
貨物所在地：
香港香港特別行政區(qū)
更新時間：
2024-11-04 21:00:07
有效期：
2024年11月4日 -- 2025年5月4日
已獲點擊：
148
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產(chǎn)品簡介

Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應(yīng)力薄膜,。該系統(tǒng)可以滿足實驗室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全,，設(shè)施和工藝標(biāo)準(zhǔn)要求。

詳細介紹

Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜,。*的反應(yīng)器設(shè)計可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應(yīng)力薄膜,。該系統(tǒng)可以滿足實驗室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全，設(shè)施和工藝標(biāo)準(zhǔn)要求,。

Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)具有許多標(biāo)準(zhǔn)的需求功能,，而且是這樣一個如此合理價格，這就是為什么許多世界各地的用戶已經(jīng)作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)的選擇,。

特征：

沉積薄膜：氧化物,、氮化物,、氧氮化物，非晶硅,。

工藝氣體：＜20%硅烷,、氨氣、正硅酸乙酯,、二乙基硅烷,、氧化亞氮、氧,、氮

應(yīng)用：

MEMS, 固態(tài)照明,，失效分析，研發(fā),，試驗線.

 

客戶留言：

“相比較實驗室的其他設(shè)備,，我發(fā)現(xiàn)該設(shè)備（Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)和 Phantom RIE 刻蝕系統(tǒng)）是非常強大的。”–Lee M. Fischer,，國家納米技術(shù)研究所,，艾伯塔大學(xué)

“I’ve found both machines (Orion PECVD and Phantom RIE) to be quite robust, indestructible by comparison to some other lab equipment.” – Lee M. Fischer, National Institute for Nanotechnology, University of Alberta

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