德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司

中級會員 | 第9年

: 18721247059

Minilock-Orion III PECVD-PECVD沉積

返回列表頁

舉報

貨物所在地：香港香港特別行政區(qū)

所在地：美國

更新時間：2025-05-15 21:00:07

瀏覽次數(shù)：138

在線詢價收藏商機

( 聯(lián)系我們,，請說明是在化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,，謝謝?。?/p>

產(chǎn)品分類品牌分類

KLA/科磊: 方塊電阻測量儀薄膜厚度測量儀表面缺陷檢測系統(tǒng) 納米壓痕儀光學輪廓儀探針式輪廓儀

薄膜測量系統(tǒng): 接觸角測量系統(tǒng) 光譜反射儀橢偏儀薄膜應力測量系統(tǒng)

微組裝系統(tǒng): WB-200 半自動引線鍵合機

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

測量儀器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

Hall Effect: HMS-3300霍爾效應測試儀 HMS-3000霍爾效應測試儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積

美國杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺: 磁體探針臺低溫探針臺

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機

紫外掩膜對準曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對準曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學: 人體運動能耗監(jiān)測儀

PIE scientific: Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機 SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機 EM-KLEEN等離子體清洗機 Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機 Tergeo-Pro桌面等離子清洗機 Tergeo-Plus桌面等離子清洗機 Tergeo桌面等離子清洗機離子源氣體混配器多用途樣品清潔及儲存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic: 檢測相機返工工作站激光疊片機 / 拆片機劃刻器 MPT手動拉力測試儀焊線機芯片鍵合機

OAI: 集成式 IV 光伏測試系統(tǒng) AML 原位對準晶圓鍵合機 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

查看更多分類

KLA-Tencor
JFP microtechnic
其他品牌
OAI
DuPont/杜邦
PIE scientific

查看更多分類

供應簡介詳細介紹

PECVD沉積

PECVD沉積

Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm,，且根據(jù)電極配置,，可以處理單個基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸)，或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”),。
Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝,。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物,、氮化物,、無定形硅和碳化硅。工藝氣體：*硅烷,、氨,、TEOS、二乙基硅烷,、氧化亞氮,、氧、氮,、*基硅烷和甲烷,。
該系統(tǒng)可選配一個三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,，從而控制薄膜應力,。
基片通過預真空室裝入工藝室,，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶的安全性,。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下,，從而保持反應室與大氣隔絕。