當前位置:德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司> 供求商機> Trion Orion HDCVD-Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)
Orion HDCVD 高密度氣相化學沉積系統(tǒng)采用高密度的化學氣相沉積技術,,在惰性氣體進入口安裝感應線圈,,周圍布置陶瓷管,。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時,,會發(fā)生化學反應,,然后在襯底表面沉積一層薄膜.
該技術不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上,。
射頻可通過Chuck改變薄膜性能,。
該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster,。
該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,,或添加到集群平臺Cluster。
請輸入你感興趣的產(chǎn)品
請簡單描述您的需求
請選擇省份
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
對比框
- 個 性 化: www.firstnanosystem.cn
- 商鋪網(wǎng)址: http://sorrent.com.cn/st326752/
- 公司網(wǎng)站: www.firstnanosystem.com
掃一掃訪問手機商鋪
以上信息由企業(yè)自行提供,,信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責,,化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責任,。
溫馨提示:為規(guī)避購買風險,建議您在購買產(chǎn)品前務必確認供應商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量,。