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Trion Orion HDCVD-Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)
  • Trion Orion HDCVD-Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)

貨物所在地:香港香港特別行政區(qū)

地: 美國

更新時間:2025-05-15 21:00:07

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Trion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)

 

 

Orion HDCVD 高密度氣相化學沉積系統(tǒng)采用高密度的化學氣相沉積技術,,在惰性氣體進入口安裝感應線圈,,周圍布置陶瓷管,。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時,,會發(fā)生化學反應,,然后在襯底表面沉積一層薄膜.

該技術不需要將襯底加熱到典型的PECVD溫度,并且該方法非常適合沉積在有機物、柔性襯底和其它具有溫度限制的表面上,。            

射頻可通過Chuck改變薄膜性能,。            

該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,或添加到集群平臺Cluster,。

該系統(tǒng)可以升級傳送Loadlock,,或添加到集群平臺Cluster。

 

 

 

 

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