德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司

中級(jí)會(huì)員 | 第9年

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PDC-002-等離子清洗機(jī)

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貨物所在地：國(guó)外

所在地： U.S.A

更新時(shí)間：2025-06-03 21:00:07

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產(chǎn)品分類品牌分類

KLA/科磊: 方塊電阻測(cè)量?jī)x 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng) 納米壓痕儀光學(xué)輪廓儀探針式輪廓儀

薄膜測(cè)量系統(tǒng): 接觸角測(cè)量系統(tǒng) 光譜反射儀橢偏儀薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

微組裝系統(tǒng): WB-200 半自動(dòng)引線鍵合機(jī)

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

測(cè)量?jī)x器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

Hall Effect: HMS-3300霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積

美國(guó)杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺(tái): 磁體探針臺(tái) 低溫探針臺(tái)

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機(jī)

紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機(jī)

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學(xué): 人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀

PIE scientific: Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機(jī) SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機(jī) Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機(jī) EM-KLEEN等離子體清洗機(jī) Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機(jī) Tergeo-Pro桌面等離子清洗機(jī) Tergeo-Plus桌面等離子清洗機(jī) Tergeo桌面等離子清洗機(jī) 離子源氣體混配器多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic: 檢測(cè)相機(jī) 返工工作站激光疊片機(jī) / 拆片機(jī) 劃刻器 MPT手動(dòng)拉力測(cè)試儀焊線機(jī) 芯片鍵合機(jī)

OAI: 集成式 IV 光伏測(cè)試系統(tǒng) AML 原位對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合機(jī) AAA 標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器 Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī) Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī) Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī) Model 800E 紫外掩膜曝光機(jī) Model 212 紫外掩膜曝光機(jī) Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)

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供應(yīng)簡(jiǎn)介詳細(xì)介紹

Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計(jì)和制造,。自1969開(kāi)始,，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名,。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士,，開(kāi)創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要*。 Harrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺(tái)臺(tái)式研究等離子體器件,。高功率等離子清洗機(jī),現(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實(shí)驗(yàn)室是廣泛應(yīng)用,。

PDC-002等離子清洗機(jī)特點(diǎn)：

　　桌面型
　　射頻功率可調(diào)（低檔，中檔,，高檔）
　　zui大功率30KW
　　腔體直徑6英寸,，深6.5英寸
　　鉸鏈門(mén)設(shè)計(jì)
　　風(fēng)冷
　　PDC-002等離子清洗機(jī)集成開(kāi)關(guān)控制真空泵
　　1/8英寸NPT接頭閥
　　1/8英寸三通閥
重量：37磅
　　尺寸：11"HX18''9''D

Harrick Plasma 等離子清洗機(jī)參考客戶：

蘭州大學(xué) 鄭州大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海復(fù)旦大學(xué) 合肥工業(yè)大學(xué) 成都電子科技大學(xué) 北京大學(xué) 清華大學(xué)醫(yī)工所蘭州化物所中科院納米所等等

我公司專業(yè)銷售Harrick Plasma產(chǎn)品，并提供Harrick Plasma產(chǎn)品的售前售后服務(wù)，如您對(duì)Harrick Plasma產(chǎn)品感興趣,，歡迎前來(lái)咨詢,！German First-Nano System （HK）Limited