德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司

中級(jí)會(huì)員 | 第9年

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貨物所在地：國(guó)外

所在地： 德國(guó)

更新時(shí)間：2025-06-06 21:00:06

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產(chǎn)品分類(lèi)品牌分類(lèi)

KLA/科磊: 方塊電阻測(cè)量?jī)x 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng) 納米壓痕儀光學(xué)輪廓儀探針式輪廓儀

薄膜測(cè)量系統(tǒng): 接觸角測(cè)量系統(tǒng) 光譜反射儀橢偏儀薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

微組裝系統(tǒng): WB-200 半自動(dòng)引線鍵合機(jī)

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

測(cè)量?jī)x器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

Hall Effect: HMS-3300霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積

美國(guó)杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺(tái): 磁體探針臺(tái) 低溫探針臺(tái)

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機(jī)

紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機(jī)

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學(xué): 人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀

PIE scientific: Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機(jī) SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機(jī) Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機(jī) EM-KLEEN等離子體清洗機(jī) Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機(jī) Tergeo-Pro桌面等離子清洗機(jī) Tergeo-Plus桌面等離子清洗機(jī) Tergeo桌面等離子清洗機(jī) 離子源氣體混配器多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic: 檢測(cè)相機(jī) 返工工作站激光疊片機(jī) / 拆片機(jī) 劃刻器 MPT手動(dòng)拉力測(cè)試儀焊線機(jī) 芯片鍵合機(jī)

OAI: 集成式 IV 光伏測(cè)試系統(tǒng) AML 原位對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合機(jī) AAA 標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器 Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī) Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī) Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī) Model 800E 紫外掩膜曝光機(jī) Model 212 紫外掩膜曝光機(jī) Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)

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供應(yīng)簡(jiǎn)介詳細(xì)介紹

PECVD沉積廠家提供詳細(xì)的工藝氣體,原理信息。

　　Minilock-Orion III是一套的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm,，且根據(jù)電極配置，可以處理單個(gè)基片或帶承片盤(pán)的基片(3”- 300mm尺寸),，或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”),。

　　Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物,、氮氧化物,、氮化物,、無(wú)定形硅和碳化硅。工藝氣體：*硅烷,、氨,、TEOS、二乙基硅烷,、氧化亞氮,、氧、氮,、*基硅烷和甲烷,。

　　該系統(tǒng)可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,，從而控制薄膜應(yīng)力,。

　　基片通過(guò)預(yù)真空室裝入工藝室，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸,，從而提高了用戶的安全性,。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而保持反應(yīng)室與大氣隔絕,。

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