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產(chǎn)品簡介
PECVD沉積廠家提供詳細(xì)的工藝氣體,原理信息,。
詳細(xì)介紹
Minilock-Orion III是一套的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。 系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm,，且根據(jù)電極配置,，可以處理單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸)，或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”),。
Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝,。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物,、氮化物,、無定形硅和碳化硅。工藝氣體：*硅烷,、氨,、TEOS、二乙基硅烷,、氧化亞氮,、氧,、氮、*基硅烷和甲烷,。
該系統(tǒng)可選配一個(gè)三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源,。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而控制薄膜應(yīng)力,。
基片通過預(yù)真空室裝入工藝室,，其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶的安全性,。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下,，從而保持反應(yīng)室與大氣隔絕。