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NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能,，Z大到6“旋轉平臺，Z大可支持到3個偏軸平面磁控管,。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr,，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空,。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度,。

磁控濺射技術

NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能,，zui大到6"旋轉平臺,，zui大可支持到3個偏軸平面磁控管,。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空,。通過調整磁控管與基片之間的距離,，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3000帶有12"派熱克鐘罩腔體，2個2"的磁控管,，DC直流和RF射頻電源。在選配方面,，我們提供不銹鋼腔體,，260 l/s渦輪分子泵,，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)產品特點：

不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃
70,，250或500 l/s的渦輪分子泵,，串接機械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 Å的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯(lián)鎖功能

選配項：

不銹鋼腔體
RF,、DC濺射
RF或DC偏壓（1000V）
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監(jiān)測儀
基片的RF射頻等離子清洗
預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

應用：

晶圓片,、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆
光學以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應濺射

德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司

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