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詳細(xì)介紹
兆聲清洗技術(shù)
單片晶圓清洗機(jī)概述：
技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,，可以幫助用戶獲得zui干凈的晶圓片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng),，用于*進(jìn)的無損兆聲清洗,。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,，包含帶保護(hù)膜的掩模版,。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值,。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面,，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi),。
SWC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力,，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng),，可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的,。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布,。
通過聯(lián)合使用化學(xué)試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術(shù),，系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進(jìn)一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升,，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去,，而把回附的數(shù)量降到了zui低水平。從基片表面被去除,。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)勢(shì),，*進(jìn)的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會(huì)有更大數(shù)量的顆粒回附，并且因此需要更多的去除這些顆粒,。
此外,，NANO-MASTER的清洗機(jī)都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機(jī)械的方式去除無圖案基片上的污點(diǎn)和殘膠,。DI水臭氧化的選配項(xiàng)提供了有機(jī)物的去除,，而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級(jí)的顆粒去除,。根據(jù)不同的應(yīng)用,，某些選配項(xiàng)將會(huì)進(jìn)一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
SWC系統(tǒng)能夠就地實(shí)現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干,。“干進(jìn)干出” 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以zui低的投資和購置成本來實(shí)現(xiàn),。NANO-MASTER清洗機(jī)的工藝處理時(shí)間可以在3-5分鐘內(nèi)完成，具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況,。
NANO-MASTER的技術(shù)也適用于清洗背部以及帶保護(hù)膜掩模版前面的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護(hù)膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準(zhǔn)備表面以便再次覆膜,。此外,，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無損并且對(duì)薄膜無滲漏。
SWC是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備,，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中,。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片,。
單片晶圓清洗機(jī)應(yīng)用：
- 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
- Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
- CMP處理后的晶圓片清洗
- 晶圓框架上的切粒芯片清洗
- 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
- 帶保護(hù)膜的分劃版清洗
- 掩模版空白部位或接觸部位清洗
- X射線及極紫外掩模版清洗
- 光學(xué)鏡頭清洗
- ITO涂覆的顯示面板清洗
- 兆聲輔助的剝離工藝
的特點(diǎn)：
- 臺(tái)式系統(tǒng)
- 無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
- 支持12”直徑的圓片或9”x9”方片
- 微處理機(jī)自動(dòng)控制
- IR紅外燈
選配項(xiàng)：
- 掩模版或晶圓片夾具
- PVA軟毛刷清洗
- 化學(xué)試劑清洗(CDU)
- 氮?dú)怆x子發(fā)生器