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RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火爐

應(yīng)用于4英寸的真空/高真空快速退火應(yīng)用,。

應(yīng)用領(lǐng)域：

• 離子注入/接觸退火；

• 快速熱處理(RTP),，快速退火(RTA),，快速熱氧化(RTO),，快速熱氮化(RTN),；

• 可在真空,、惰性氣氛,、氧氣、氫氣,、混合氣等不同氣體氛圍環(huán)境下使用,；

• SiAu, SiAl, SiMo合金化,；

• 低介電材料,；

• 晶體化,，致密化；

• 太陽能電池片鍵合,；

• 電阻燒結(jié)

• 其他熱工藝需求

• 等等...

產(chǎn)品特點(diǎn)：

- 真空快速退火爐,，有RTP-100型號(hào)    低真空(10-3 hPa)

                                  RTP-100-HV      高真空(10-6 hPa),；

- 可應(yīng)用在不同氣氛環(huán)境下使用,，如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等,；

- 控制方式：SPS人機(jī)界面控制,，7英寸觸摸屏控制；

- 可存儲(chǔ)50個(gè)程序,，每個(gè)程序zui多分為50步驟控制,；

- 全自動(dòng)智能控制，包括溫度,、時(shí)間,、氣體流量、真空度,、冷卻水均可自動(dòng)設(shè)置,；

- 優(yōu)異的溫控均勻性，的工藝重復(fù)性,；

技術(shù)規(guī)格：

- zui高溫度：1200℃,；

- 升溫速率：150℃/秒；

- 降溫速度：200℃/分鐘 (1000℃-->400℃),；

- 溫控均勻性：≤ 1.5%設(shè)定溫度,；

- 加熱方式：紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞考訜?，也可單?dú)控制加熱

- 燈管數(shù)量及功率：18支/20KW

- 腔體冷卻：水冷方式,，獨(dú)立冷卻源

- 襯底冷卻：氮?dú)獯祾撸?/span>

- 工藝氣路：MFC控制，zui多4路 (氮?dú)?、氬氣,、氧氣、氫氮混合氣?,；

參考客戶：

中科院蘇州納米所,、西安交通大學(xué)、清華大學(xué),、中山大學(xué),、西安電子科技大學(xué)、中科院上海技術(shù)物理所,、北京航天儀器研究所,、鄭州大學(xué)、CETC13等,。