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Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計和制造,。自1969開始,，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名,。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士,，開創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要*,。
Harrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件。現(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實驗室是廣泛應(yīng)用,。
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
Harrick Plasma 等離子清洗機(jī)真空泵配置：
>1.4 1.4 m3/hr (0.83 ft3/min) 極限壓力在200 mTorr (0.27 mbar)以下
真空泵型號：
經(jīng)濟(jì)型 PDC-VPE (115V); PDC-VPE-2 (230V)
穩(wěn)定型 PDC-VP (115V ) ; PDC-VP-2 (230V)
工藝氣體為氧氣,，請選擇真空泵型號
經(jīng)濟(jì)型 PDC-OPE (115V); PDC-OPE-2 (230V)
穩(wěn)定型 PDC-OPD (115V); PDC-OPD-2(230V)
對于其他腐蝕性或者反應(yīng)性氣體，請咨詢 German First-Nano System （HK）Limited