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PDC- FMG-PlasmaFlo 氣體流量混合器

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更新時間：2025-03-30 21:00:05

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KLA/科磊: 方塊電阻測量儀薄膜厚度測量儀表面缺陷檢測系統(tǒng) 納米壓痕儀光學輪廓儀探針式輪廓儀

薄膜測量系統(tǒng): 接觸角測量系統(tǒng) 光譜反射儀橢偏儀薄膜應力測量系統(tǒng)

微組裝系統(tǒng): WB-200 半自動引線鍵合機

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

測量儀器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

Hall Effect: HMS-3300霍爾效應測試儀 HMS-3000霍爾效應測試儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積

美國杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺: 磁體探針臺低溫探針臺

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機

紫外掩膜對準曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對準曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學: 人體運動能耗監(jiān)測儀

PIE scientific: Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機 SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機 EM-KLEEN等離子體清洗機 Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機 Tergeo-Pro桌面等離子清洗機 Tergeo-Plus桌面等離子清洗機 Tergeo桌面等離子清洗機離子源氣體混配器多用途樣品清潔及儲存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic: 檢測相機返工工作站激光疊片機 / 拆片機劃刻器 MPT手動拉力測試儀焊線機芯片鍵合機

OAI: 集成式 IV 光伏測試系統(tǒng) AML 原位對準晶圓鍵合機 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

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供應簡介詳細介紹

Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業(yè)光學光譜儀器的設計和制造,。自1969開始,，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名,。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士,，開創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術的主要*,。
Harrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件。現(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實驗室是廣泛應用,。