Harrick Plasma 具有悠久歷史的專(zhuān)業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計(jì)和制造,。自1969開(kāi)始,,Harrick Plasma ,,行業(yè)享有盛名。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士,,開(kāi)創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要*,。
Harrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺(tái)臺(tái)式研究等離子體器件。現(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實(shí)驗(yàn)室是廣泛應(yīng)用,。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
Plasmaflo是可選配件
可用于任何與等離子清洗機(jī)模型結(jié)合,,有利于氣體混合,氣體的流量和真空壓力監(jiān)測(cè)更精確的定量控制,。
PlasmaFlo 特征:
(PDC-FMG (115V); PDC-FMG-2 (230V))
- 兩種工藝氣體比例混合控制流量,,也可獨(dú)立控制兩種工藝氣體的流量的雙過(guò)程流量計(jì)
- 常壓下zui大49mL/min 的流量
- 精度± 2%
- 熱電偶真空計(jì),數(shù)值顯示(范圍1 to 1999 mTorr)
- 重量:7 lbs
- 尺寸:8.5" H x 10" W x 8" D
* zui大流量隨工藝氣體和調(diào)節(jié)壓力變化,。流量計(jì)可用于常見(jiàn)的工藝氣體(空氣,,氬氣,氮?dú)?,氧氣)?/p>
其他工藝氣體請(qǐng)咨詢 German First-Nano System (HK)Limited