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Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計和制造,。自1969開始,，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名,。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士,，開創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要*。
Harrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件?，F(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實(shí)驗室是廣泛應(yīng)用,。

等離子表面處理機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染,。等離子表面處理機(jī)外接一臺真空泵,，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,，同時污染物被真空泵抽走,，其清洗程度達(dá)到分子級。
等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué),、光電子學(xué),、電子學(xué)、材料科學(xué),、生命科學(xué),、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué),、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域,。

儀器應(yīng)用：

1. 高分子材料表面修飾。

2. 清洗光學(xué)鏡片,、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片,。

3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),。

4. 清洗ATR元件,、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石,。

5. 清洗半導(dǎo)體元件,、印刷線路板,。

6. 清洗生物芯片、微流控芯片,。

7. 清洗沉積凝膠的基片,。

8. 清洗電子元件、光學(xué)器件,、激光器件,、鍍膜基片、芯片,。

9. 牙科材料,、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌,。

10. 改善粘接光學(xué)元件,、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料,、宇航材料等所用膠水的

粘和力,。

主要特點(diǎn)：

1. 緊湊臺式設(shè)備、沒有RF放射,、符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。

2. 功率為低,、中,、高三檔可調(diào)。

3. 基本型：

- 清洗腔：長6.5英寸,，直徑3英寸,腔蓋可拆卸,；

- RF線圈zui大施加功率18W；

- 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力,；

- 整機(jī)尺寸：8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D,；

- 重量：13 lbs；

4. 選配件

- 石英等離子清洗腔,；

- 氣體流量混合器,；

- 真空泵；

參考客戶：

蘭州大學(xué) 鄭州大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海復(fù)旦大學(xué) 合肥工業(yè)大學(xué) 成都電子科技大學(xué) 北京大學(xué) 清華大學(xué)

醫(yī)工所蘭州化物所中科院納米所等等

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