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Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計(jì)和制造,。自1969開始,，Harrick Plasma ,，行業(yè)享有盛名,。該公司的創(chuàng)始人N. J. Harrick博士,，開創(chuàng)了內(nèi)反射光譜和成為該技術(shù)的主要*。
Harrick Plasma 研發(fā)了三十多年前的*臺(tái)臺(tái)式研究等離子體器件?，F(xiàn)在Harrick Plasma 儀器在許多研究實(shí)驗(yàn)室是廣泛應(yīng)用,。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
等離子表面處理機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染,。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵,，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,，同時(shí)污染物被真空泵抽走,，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。
等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué),、光電子學(xué),、電子學(xué)、材料科學(xué),、生命科學(xué),、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué),、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域,。
儀器應(yīng)用：
1. 高分子材料表面修飾。
2. 清洗光學(xué)鏡片,、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片,。
3. 移除光學(xué)元件,、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),。
4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體,、天然晶體和寶石,。
5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板,。
6. 清洗生物芯片,、微流控芯片。
7. 清洗沉積凝膠的基片。
8. 清洗電子元件,、光學(xué)器件,、激光器件、鍍膜基片,、芯片,。
9. 牙科材料、人造移植物,、醫(yī)療器械的消毒和殺菌,。
10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖,、生物醫(yī)學(xué)材料,、宇航材料等所用膠水的
粘和力。
主要特點(diǎn)：
1. 緊湊臺(tái)式設(shè)備,、沒有RF放射,、符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。
2. 功率為低,、中,、高三檔可調(diào)。
3. 基本型：
- 清洗腔：長(zhǎng)6.5英寸,，直徑3英寸,腔蓋可拆卸,；
- RF線圈zui大施加功率18W；
- 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力,；
- 整機(jī)尺寸：8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D,；
- 重量：13 lbs；
4. 選配件
- 石英等離子清洗腔,；
- 氣體流量混合器,；
- 真空泵；
參考客戶：
蘭州大學(xué) 鄭州大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海復(fù)旦大學(xué) 合肥工業(yè)大學(xué) 成都電子科技大學(xué) 北京大學(xué) 清華大學(xué)
醫(yī)工所 蘭州化物所 中科院納米所 等等