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NIE-3000離子束清洗系統(tǒng)：是一款手動放片/取片,，但工藝過程為全自動計算機(jī)控制的臺式離子束刻蝕系統(tǒng),，可以用于表面清洗、表面處理,、離子銑等,。

LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及的兆聲清洗,、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻...

LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,。它是集成式的...

SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性,、高均勻性及的兆聲清洗,、兆聲輔助下光刻膠剝離,，以及濕法刻蝕,。該...

SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,、兆聲輔助下光刻膠剝離,，以及濕法刻蝕...

SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,，以及兆聲輔助的光刻膠剝離,。它可以在一...

SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗,，以及兆聲輔助下光刻膠剝離,。它可以在一...

NPC-4000（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用,，從晶圓的光...

NPC-4000（A）全自動等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,，具有廣泛應(yīng)用，從晶...

NPC-3500（A）全自動等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子刻蝕和等離子灰化機(jī)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,，具有廣泛應(yīng)用,，從晶...

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