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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |

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更新時間:2024-05-16 11:47:53瀏覽次數(shù):3934
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勻膠顯影機(英文名:Developing)
產(chǎn)地:美國
一、產(chǎn)品概述:
Laurell勻膠顯影機EDC650型勻膠顯影機適應于半導體,、化工材料,、硅片、晶片,、基片,、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影,。一般勻膠顯影機由動力系統(tǒng),、顯影液槽及噴液管、水洗槽,、擠壓 (水)輥,、涂膠槽等部分組成,。
二、勻膠顯影機工作原理:
Laurell勻膠顯影機EDC顯影系統(tǒng)具有可編程閥,,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻,、顯影和清洗應用的要求重復進行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),,然后干燥(通常是氮氣)等之后的處理步驟,。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié),。勻膠顯影機還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性,。
三、勻膠顯影機主要性能指標:
1,、腔體尺寸:12英寸 (300 毫米),;
2、Wafer&芯片:直徑8英寸(200毫米)的晶圓片或者7x7英寸(175毫米)的方片,;
3,、非真空托盤:聚丙烯材質(zhì)非真空托盤,可承載2,、3英寸及200毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能,;
3、轉(zhuǎn)動速度:0-12,000rpm,,
5,、馬達旋涂轉(zhuǎn)速:穩(wěn)定性能誤差 < ±1%;
6,、工藝時間設(shè)定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度,;
7、高精度數(shù)碼控制器:PLC控制,,設(shè)置點精度小于0.006%,;
8、程序控制:可存儲20個程序段,,每個程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài),;
9、分辨率:分辨率不超過1轉(zhuǎn)/分,,可重復性不小于1轉(zhuǎn)/分,,美國國家標準技術(shù)研究院(NIST)認證過的,并且無需再校準,!]
10,、腔體開關(guān)蓋板:透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板,便于實時進行可視化操作,;
11,、腔體材質(zhì)說明:用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動傳感觸點的合瓣式艙體,;
12、配套分析軟件:SPIN3000操作分析軟件,;
13,、配套真空泵系統(tǒng):無油型 220~240伏交流,50/60赫茲,;
四,、適用工藝(包括但不限于下述濕法制程)
光刻膠顯影(KrF/ArF)
SU8厚膠顯影
顯影后清洗
PostCMP清洗
光罩去膠清洗
光刻膠去除
金屬Lift-off處理
刻蝕微刻蝕處理