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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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UNIXX-SERIES德國osiris顯影機(jī)：DEVELOPER 簡單介紹：德國osiris顯影機(jī)：DEVELOPER，設(shè)計用于：顯影,、清潔和干燥,。晶圓顯影機(jī)在半導(dǎo)體制造和微納加工領(lǐng)域起著至關(guān)重要的作用,，幫助實(shí)現(xiàn)微電子元件的精密制造和微米級結(jié)構(gòu)的加工,。 產(chǎn)品型號：UNIXX-SERIES 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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UNIXX S 30 D顯影機(jī) 簡單介紹：UNIXX S 30 D 顯影機(jī)是應(yīng)用于顯影工藝的設(shè)備,，適用的基板尺寸為2英寸到12英寸的 圓片和最大到9英寸x9英寸的方片,。新設(shè)計的三片式可拆卸工藝腔體可實(shí)現(xiàn)良好的工藝 均勻性和重復(fù)性,，設(shè)備也可用于清洗和旋干工藝,。 UNIXX S 30 D的落地式柜體經(jīng)專門設(shè)計,，方便操作和維修。它是一款手動顯影機(jī),，適 用于實(shí)驗(yàn)室開展科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā),。設(shè)備具有多選項(xiàng)（例如可編程流體輸送臂）并且 可以升級成自動化 產(chǎn)品型號：UNIXX S 30 D 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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UNIXX S 20 D顯影機(jī) 簡單介紹：UNIXX S 20 D 顯影機(jī)是應(yīng)用于顯影工藝的設(shè)備，適用的基板尺寸最大到8英寸的圓片 和最大到6英寸x6英寸的方片,。新設(shè)計的三片式可拆卸工藝腔體可實(shí)現(xiàn)良好的工藝均勻 性和重復(fù)性,，設(shè)備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 20 D的落地式柜體經(jīng)專門設(shè)計,，方便操作和維修,。它是一款手動顯影機(jī)，適 用于實(shí)驗(yàn)室開展科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā),。設(shè)備具有多選項(xiàng)（例如可編程流體輸送臂）并且 可以升級成自動化的系統(tǒng) 產(chǎn)品型號：UNIXX S 20 D 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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LCS半自動旋涂顯影刻蝕機(jī) 簡單介紹：LCS專為晶圓和平面基片的半自動旋涂和開發(fā)而設(shè)計,，將是試點(diǎn)項(xiàng)目、研究所和研發(fā)的*,。 它保證了高均勻性和可重復(fù)性以及簡單的操作和維護(hù),。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。 產(chǎn)品型號：LCS 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng) 簡單介紹：SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng),，專門設(shè)計用于在劃片或劃片后清洗晶片,，針對8英寸晶圓片,。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案,，針對10英寸晶圓片,。 產(chǎn)品型號：SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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CESx124UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng) 簡單介紹：UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計,。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124,、126、128或133是理想選擇,，可滿足不同大小尺寸的晶片,、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑,。 產(chǎn)品型號：CESx124 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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WS-1000MLaurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列 簡單介紹：自1985年起,，Laurell公司向遍布所有的生物化工和半導(dǎo)體材料科研領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前,，*有超過15000套系統(tǒng)正在安全運(yùn)行,。WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構(gòu)造,，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī),，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng),，可選擇WS-1000濕法刻蝕設(shè)備,，WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以 產(chǎn)品型號：WS-1000M 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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WS-1000Laurell 濕法刻蝕設(shè)備 簡單介紹：自1985年起，Laurell 濕法刻蝕設(shè)備是生物化工和半導(dǎo)體材料科研領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室提供表面涂敷工藝的解決方案,，目前,，*有超過15000套系統(tǒng)正在安全運(yùn)行。 產(chǎn)品型號：WS-1000 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機(jī) 簡單介紹：Laurell-EDC勻膠顯影機(jī)系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導(dǎo)體前段制程的勻膠,，顯影,，刻蝕，沖洗,，甩干等工藝,，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導(dǎo)體濕法工藝的經(jīng)驗(yàn)積累,，通過對各路試劑注射的控制,，對氮?dú)夂腿ルx子水綜合應(yīng)用，能夠完整實(shí)現(xiàn)樣片的干進(jìn)干出,。是當(dāng)今*和經(jīng)濟(jì)的濕法處理解決方案,。 產(chǎn)品型號：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機(jī)EDC 簡單介紹：Laurell勻膠顯影機(jī)EDC產(chǎn)于美國，是原裝的濕法刻蝕設(shè)備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞,，成立于1985年,，是一家專業(yè)提供化工半導(dǎo)體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司,。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統(tǒng)，目前客戶已遍布,。還有WS-1000濕法刻蝕設(shè)備,，WS-1000m濕法刻蝕設(shè)備等多種半導(dǎo)體濕制成設(shè)備。 產(chǎn)品型號：EDC-650Hz-8NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機(jī) 簡單介紹：EDC濕法刻蝕顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體,、化工材料,、硅片、晶片,、基片,、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影,。 產(chǎn)品型號：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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