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主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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產品圖片 產品名稱
EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機
EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機
簡單介紹:Laurell-EDC勻膠顯影機系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導體前段制程的勻膠,,顯影,,刻蝕,,沖洗,,甩干等工藝,,可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕,,我們有著近三十年半導體濕法工藝的經驗積累,,通過對各路試劑注射的控制,,對氮氣和去離子水綜合應用,,能夠完整實現(xiàn)樣片的干進干出,。是當今*和經濟的濕法處理解決方案,。
產品型號:EDC-650Hz-23NPPB   所在地:北京市   更新時間:2024-05-16
參考價:面議 詢價留言
EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDC
EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDC
簡單介紹:Laurell勻膠顯影機EDC產于美國,是原裝的濕法刻蝕設備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞,,成立于1985年,,是一家專業(yè)提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統(tǒng),,目前客戶已遍布,。還有WS-1000濕法刻蝕設備,WS-1000m濕法刻蝕設備等多種半導體濕制成設備,。
產品型號:EDC-650Hz-8NPPB   所在地:北京市   更新時間:2024-05-16
參考價:面議 詢價留言
EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機
EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機
簡單介紹:EDC濕法刻蝕顯影機適應于半導體,、化工材料、硅片,、晶片,、基片、導電玻璃等工藝,,制版的表面顯影,。
產品型號:EDC-650Hz-23NPPB   所在地:北京市   更新時間:2024-05-16
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