光刻膠 光刻工藝中圖形轉移的工藝材料，它的性能直接影響到最終產品的質量和精度。以下是一系列高品質的光刻膠產品介紹,，旨在滿足不同微電子制造工藝的需求。

一,、高分辨率光刻膠系列

S1800 G2系列光刻膠

本系列包括S1805 G2,、S1813 G2、S1818 G2等型號,，均為高分辨率正膠,。這些光刻膠的膠厚范圍在0.4-2.7um之間，具有優(yōu)異的粘附性,，能夠在硅片表面形成穩(wěn)定的涂層,。它們的極限線寬可達0.5um，適用于正性薄膠工藝,，特別是在需要高精度圖形轉移的場合,。S1800 G2系列光刻膠還可搭配LOR/PMGI系列，實現(xiàn)小線寬雙層膠lift-off工藝,，為微電子制造提供了更多的靈活性,。

SPR955-CM系列光刻膠

SPR955-CM系列光刻膠包括SPR 955-0.7、SPR 955-1.1等多個型號,，膠厚范圍在0.7-3.5um之間,。這些光刻膠具有高分辨率和良好的粘附性，極限線寬可達0.35um,，適用于正性薄膠工藝,。它們在精細圖案的制造中表現(xiàn)出色，是高性能光刻工藝的理想選擇,。

AZ MIR 701/703光刻膠

AZ MIR 701/703光刻膠是高分辨率正膠,，膠厚范圍在0.7-1.4um之間。它們具有良好的粘附性,，極限線寬為0.5um,，適合于要求高分辨率的光刻工藝。

二,、國產光刻膠系列

ROL-7133光刻膠

ROL-7133是一種常用的負膠,，適用于g/h/i-line光源。其膠厚范圍在2.2-4um之間,，底切角度適中,，這使得它非常適合用于lift-off工藝，用于制作金屬電極或導線,。

SUN-lift 1303 光刻膠

SUN-lift 1303是國產負膠,，適用于g/h/i-line光源，膠厚范圍在2.2-4um之間,。它的底切角度適中,，適用于lift-off工藝,，為金屬圖形的制造提供了可靠的解決方案。

三,、特殊用途光刻膠系列

PMMA光刻膠

PMMA光刻膠是一種正性電子束光刻膠,，具有高分辨率，適用于電子束光刻,、二維材料轉移,、多層T-gate等工藝。它的特殊配方使其在電子束曝光下表現(xiàn)出優(yōu)秀的分辨率和對比度,。

AZ 5214E光刻膠

AZ 5214E是一種正性薄膠,，膠厚范圍在1-1.6um之間。它可搭配LOR/PMGI實現(xiàn)雙層膠lift-off工藝,，也可反轉成負膠用于lift-off工藝,，為光刻工藝提供了更多的選擇。

AZ 4620光刻膠

AZ 4620光刻膠是一種正性厚膠,，膠厚范圍在3-60um之間,，適用于干法/濕法刻蝕、電鍍等工藝,。它的厚膠特性使其在需要厚膜保護的場合非常有效,。

SU-8光刻膠

SU-8光刻膠是一種高深寬比負膠，膠厚范圍在0.5-650um之間,，具有高透明度和良好的陡直性,。它適用于絕緣層、微流控等工藝,，特別是在需要高深寬比結構的制造中,。

AZ nLOF 2000系列光刻膠

AZ nLOF 2000系列光刻膠是耐高溫Lift-off光刻膠，包括AZ nLOF 2020,、AZ nLOF 2035,、AZ nLOF 2070等型號。這些光刻膠能夠在高溫下保持穩(wěn)定,，適用于復雜的lift-off工藝,。

SPR220系列光刻膠

SPR220系列光刻膠是常用的正膠，膠厚范圍在1-10um之間,，適用于干法/濕法刻蝕,、電鍍等工藝。它的廣泛適用性使其成為多種光刻工藝的重要選擇,。

AZ 1500系列光刻膠

AZ 1500系列光刻膠是高分辨率正膠,，膠厚范圍在0.7-1.4.3um之間，適用于正性薄膠工藝。它可作為雙層膠lift-off工藝底層膠,，與S1800 G2,、SPR 955、AZ5214E等光刻膠搭配使用,，提供優(yōu)異的工藝性能,。

此外，我們還提供圖形反轉膠,、電子束光刻膠,、雙層膠工藝,、LOR光刻膠,、PMGI SF光刻膠、Lift-off工藝光刻膠,、正性光刻膠,、負性光刻膠、厚光刻膠,、薄光刻膠,、紫外光刻膠等多種類型的光刻膠產品，以滿足客戶不同的工藝需求,。

選擇合適的光刻膠 光刻工藝中圖形轉移的工藝材料對于提高生產效率,、保證產品質量和降低成本至關重要。我們致力于為客戶提供專業(yè),、高效的服務,，助力我國微電子產業(yè)的技術進步和創(chuàng)新發(fā)展。