光刻配套試劑在半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵作用不容忽視,。這些試劑與光刻膠協(xié)同工作,，確保光刻工藝的順利進(jìn)行,。顯影液能精確顯影光刻膠,，形成電路圖案,；剝離液則用于清除剩余光刻膠,，為后續(xù)步驟做好準(zhǔn)備。增粘劑,、TARC/BARC,、TCM等材料，分別起到增強(qiáng)粘附性,、減少反射,、防水等作用，提高光刻工藝的精度,。

隨著技術(shù)進(jìn)步和國(guó)家政策的支持,，光刻配套試劑行業(yè)在我國(guó)的發(fā)展勢(shì)頭迅猛。這些試劑的質(zhì)量和性能直接關(guān)系到半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,，因此,，不斷提升研發(fā)能力,，實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化替代，對(duì)我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義,。

托托科技致力于為半導(dǎo)體制造及印刷行業(yè)提供全面的光刻配套試劑,，包括顯影液、去膠液和增粘劑等關(guān)鍵材料,。

RZX-3038顯影液

型號(hào)：RZX-3038

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：這是一種國(guó)產(chǎn)通用型光刻膠顯影液,，適用于S1800系列、AZ5214,、ROL-7133等多種光刻膠系列和型號(hào),。

MF-319顯影液

型號(hào)：MF-319

規(guī)格：5L/瓶

產(chǎn)品介紹：進(jìn)口光刻膠顯影液，專(zhuān)為S1800 G2系列光刻膠設(shè)計(jì),。

AZ 400K顯影液

型號(hào)：AZ 400K

規(guī)格：加侖/瓶

產(chǎn)品介紹：進(jìn)口顯影液,，適用于AZ等多種光刻膠系列。

AZ 300 MIF Developer顯影液

型號(hào)：AZ 300 MIF Developer

規(guī)格：20L/桶

產(chǎn)品介紹：用于顯影AZ等多種光刻膠系列,。

PGMEA顯影液

型號(hào)：PGMEA

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：國(guó)產(chǎn)SU8光刻膠顯影液,。

SU-8 Developer顯影液

型號(hào)：SU-8 Developer

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：進(jìn)口顯影液，專(zhuān)用于SU-8系列產(chǎn)品,。

NMP去膠液

型號(hào)：NMP

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：國(guó)產(chǎn)通用型去膠液,，適用于S1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等,。

AZ 400T STRIPPER去膠液

型號(hào)：AZ 400T STRIPPER

規(guī)格：加侖/瓶

產(chǎn)品介紹：進(jìn)口去膠液,，專(zhuān)為AZ系列產(chǎn)品設(shè)計(jì)。

remover 1165去膠液

型號(hào)：remover 1165

規(guī)格：加侖/瓶

產(chǎn)品介紹：進(jìn)口去膠液,，適用于S1800 G2,、SPR 220系列、PM等,。

Remover PG去膠液

型號(hào)：Remover PG

規(guī)格：4L/瓶

產(chǎn)品介紹：進(jìn)口去膠液,，適用于SU8、LOR/PMGI SF,、PMMA等系列,。

HMDS增粘劑

型號(hào)：HMDS

規(guī)格：1L/瓶；加侖/瓶

產(chǎn)品介紹：光刻膠增粘劑,，通過(guò)旋涂或熏蒸方法使用,，有效改善光刻膠與襯底的粘附性，適用于玻璃,、石英等襯底,。

托托科技的產(chǎn)品線(xiàn)涵蓋了光刻工藝的各個(gè)環(huán)節(jié)，確保了半導(dǎo)體制造過(guò)程的順利進(jìn)行，同時(shí)也為印刷行業(yè)提供了高品質(zhì)的解決方案,。