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光刻配套試劑 確保了半導(dǎo)體制造過程的順利進(jìn)行

來源:托托科技(蘇州)有限公司   2025年02月18日 14:34  

光刻配套試劑在半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵作用不容忽視。這些試劑與光刻膠協(xié)同工作,,確保光刻工藝的順利進(jìn)行,。顯影液能精確顯影光刻膠,,形成電路圖案,;剝離液則用于清除剩余光刻膠,,為后續(xù)步驟做好準(zhǔn)備,。增粘劑,、TARC/BARCTCM等材料,,分別起到增強(qiáng)粘附性,、減少反射、防水等作用,,提高光刻工藝的精度,。


隨著技術(shù)進(jìn)步和國家政策的支持,光刻配套試劑行業(yè)在我國的發(fā)展勢頭迅猛,。這些試劑的質(zhì)量和性能直接關(guān)系到半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,,因此,不斷提升研發(fā)能力,,實現(xiàn)國產(chǎn)化替代,,對我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義。

托托科技致力于為半導(dǎo)體制造及印刷行業(yè)提供全面的光刻配套試劑,,包括顯影液,、去膠液和增粘劑等關(guān)鍵材料。

RZX-3038顯影液

型號:RZX-3038

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:這是一種國產(chǎn)通用型光刻膠顯影液,,適用于S1800系列,、AZ5214ROL-7133等多種光刻膠系列和型號,。

MF-319顯影液

型號:MF-319

規(guī)格:5L/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口光刻膠顯影液,,專為S1800 G2系列光刻膠設(shè)計。

AZ 400K顯影液

型號:AZ 400K

規(guī)格:加侖/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口顯影液,,適用于AZ等多種光刻膠系列,。

AZ 300 MIF Developer顯影液

型號:AZ 300 MIF Developer

規(guī)格:20L/

產(chǎn)品介紹:用于顯影AZ等多種光刻膠系列。

PGMEA顯影液

型號:PGMEA

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:國產(chǎn)SU8光刻膠顯影液,。

SU-8 Developer顯影液

型號:SU-8 Developer

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口顯影液,,專用于SU-8系列產(chǎn)品。

NMP去膠液

型號:NMP

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:國產(chǎn)通用型去膠液,,適用于S1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等,。

AZ 400T STRIPPER去膠液

型號:AZ 400T STRIPPER

規(guī)格:加侖/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,,專為AZ系列產(chǎn)品設(shè)計。

remover 1165去膠液

型號:remover 1165

規(guī)格:加侖/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,,適用于S1800 G2,、SPR 220系列,、PM等。

Remover PG去膠液

型號:Remover PG

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,,適用于SU8,、LOR/PMGI SFPMMA等系列,。

HMDS增粘劑

型號:HMDS

規(guī)格:1L/瓶,;加侖/

產(chǎn)品介紹:光刻膠增粘劑,通過旋涂或熏蒸方法使用,,有效改善光刻膠與襯底的粘附性,,適用于玻璃、石英等襯底,。

托托科技的產(chǎn)品線涵蓋了光刻工藝的各個環(huán)節(jié),,確保了半導(dǎo)體制造過程的順利進(jìn)行,同時也為印刷行業(yè)提供了高品質(zhì)的解決方案,。


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