磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)

公司生產(chǎn)的各型鍍膜機(jī),，是針對(duì)特定市場和客戶群體開發(fā)的新產(chǎn)品，與目前市場上普遍采用的鍍膜設(shè)備相比具備以下突出優(yōu)勢：單體同步精密監(jiān)控,，實(shí)時(shí)膜厚分布控制,。因此適合做各類高難度鍍膜產(chǎn)品。單片薄膜產(chǎn)品的面積越大,，優(yōu)勢越明顯,。而電子束鍍膜機(jī)還增加了雙面鍍膜功能,，適合半導(dǎo)體激光器的端面鍍膜。

特點(diǎn)：

1,、支持向上或向下的鍍膜方式,；

2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),，實(shí)現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠,；

3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實(shí)際鍍膜工件的監(jiān)控位置,，實(shí)現(xiàn)了所見即所得,；

4、多通道透射式監(jiān)控,，配合可調(diào)節(jié)膜厚修正板,，實(shí)現(xiàn)了膜厚分布的反饋控制；

5,、支持任意膜厚的控制,；

6、通用的控制平臺(tái),，友好的人機(jī)界面,，使客戶可以自行設(shè)置鍍膜機(jī)的所有控制參數(shù)；

7,、開放式接口,，方便安裝第三方的光學(xué)膜厚儀；

8,、氣流和氣壓同時(shí)實(shí)時(shí)控制,，適用出氣量大的低溫鍍膜。

工藝參數(shù)：

1,、真空系統(tǒng)

     a) 極限真空度：4.0×10-5Pa 

     b) 抽至10Pa所用時(shí)間：≦ 10 分鐘

     c) 漏率： 3.0×10-5Pa m3/sec

2,、控制精度

     a) 靶材尺寸：8寸直徑

     b) 工件旋速: 20-120RPM

     c) 工件尺寸：直徑900mm

     d) 離子源：等離子體離子源

     e) 加熱溫度：上下雙加熱控制，Z高溫度350度

     f）高真空泵：DN400油擴(kuò)散泵或電子泵

     g）低真空泵組：機(jī)械泵+羅茨泵機(jī)組

     h）冷阱：雙組Polycold

3,、光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)OMS

     a) 波長精度：0.2nm

     b) 光強(qiáng)波動(dòng): 白光< 0.1%,，激光< 0.02%

     c) 波長范圍: 400nm-1650nm

磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)