全自動離子濺射儀是一種用于材料表面鍍膜的高科技設備,,廣泛應用于電子,、光學、材料科學等領(lǐng)域,。其結(jié)構(gòu)設計具有以下顯著優(yōu)點:
1.高效自動化
全流程自動化:從樣品加載,、抽真空、離子轟擊到鍍膜完成,,全程由程序控制,,無需人工干預,減少操作誤差,。
快速鍍膜:采用高能離子束直接濺射靶材,,成膜速度快,適合批量處理,。
多工位設計:部分型號支持多個樣品同時鍍膜,,提升實驗效率。
2.高精度與均勻性
均勻濺射:通過旋轉(zhuǎn)樣品臺或掃描離子束,,確保鍍膜厚度均勻,,適用于復雜形狀樣品。
精確控制:
離子能量:可調(diào)節(jié)加速電壓,,控制鍍膜致密度,。
鍍膜厚度:通過時間或電流反饋實現(xiàn)納米級厚度控制。
靶材利用率:磁控濺射技術(shù)提高靶材利用率,,減少材料浪費,。
3.全自動離子濺射儀多功能適應性
多靶材兼容:支持金屬、氧化物,、合金等靶材,,滿足不同實驗需求。
多模式鍍膜:
直流(DC)濺射:適合導電靶材(如金屬),。
射頻(RF)濺射:用于絕緣靶材(如陶瓷,、玻璃)。
反應濺射:引入反應氣體制備化合物薄膜。
傾斜/旋轉(zhuǎn)樣品臺:可調(diào)節(jié)角度以實現(xiàn)斜面或側(cè)面鍍膜,,適應立體樣品,。
4.緊湊與模塊化設計
集成化結(jié)構(gòu):真空腔、電源,、控制系統(tǒng)一體化設計,,占地小,便于實驗室布局,。
模塊化組件:
可更換靶槍:快速更換不同靶材,,節(jié)省維護時間。
可選配件:如加熱臺,、冷卻系統(tǒng),、射頻匹配器等,擴展功能靈活,。
5.安全與可靠性
真空安全保障:
自動真空泄氣閥,,防止誤操作導致腔體過壓。
真空度實時監(jiān)測,,低真空報警功能,。
防護設計:
腔體配備防輻射屏蔽,減少X射線暴露,。
緊急停機按鈕,,切斷高壓和真空系統(tǒng)。
長壽命部件:
離子源壽命長達數(shù)千小時,,降低維護頻率,。
真空系統(tǒng)采用干泵或分子泵組,免油污染,,維護周期長,。
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