GVC-2000P磁控離子濺射儀產(chǎn)品特點：
1、一鍵操作,，具備工作完成提示音,。
2、鍍膜顆粒小,，無熱損傷,。
3、靶材更換非常簡單,。
4,、特殊密封結(jié)構(gòu)，玻璃不易損壞,。
5、內(nèi)置操作向?qū)?，無需培訓即可熟練操作,。

金顆粒尺寸（硅片噴金）                       電池隔膜10萬倍（噴鉑）

GVC-2000P磁控離子濺射儀技術方案

1. 采用平面磁控濺射靶頭進行靶材濺射，以確保工作過程樣品不會發(fā)生熱損傷,。

2. 采用ARM作為處理器,，全自主知識產(chǎn)權，擴展性好,，可選配：

a) 膜厚監(jiān)控組件：可預設期望鍍膜厚度,，在工作過程中精確控制鍍膜厚度；

b) 樣品臺加熱組件：可通過加熱提高膜層的致密性以及與基地的結(jié)合力,。

3. 7英寸觸摸式液晶顯示屏,，分辨率為800×480，全數(shù)字顯示,；

3.1 可設定：（1）濺射電流,；（2）濺射時間；（3）靶材種類,；（4）工作真空度,；（5）工作氣體；（6）屏幕亮度等參數(shù)；

3.2 可顯示：（1）濺射電流,；（2）濺射剩余時間,；（3）工作真空度；（4）靶材累計使用時間,；（5）設備累計使用時間等參數(shù),。

4. 濺射電流：2-100mA連續(xù)可調(diào)，最小步長為1mA,；

5. 濺射時長：1-999s連續(xù)可調(diào),，最小步長為1s；

6. 濺射真空：4-20Pa連續(xù)可調(diào),，最小步長為0.1Pa,；

7. 濺射靶材：標配為高純鉑靶（純度4N9），規(guī)格為φ57×0.12mm,；也可使用金,、銀、銅,、金鈀合金等金屬作為濺射靶材,；

8. 真空室：采用高透光性的高硅硼玻璃，尺寸約為φ200×130mm,；

9. 樣品臺：可自轉(zhuǎn)的不銹鋼樣品臺,，直徑為φ125mm，轉(zhuǎn)速4-20rpm可調(diào),；

10. 靶材參數(shù)：系統(tǒng)提供金,、鉑、銀,、銅對于空氣和氬氣的工作參數(shù),，可直接使用。同時提供4種自定義靶材,，用戶可根據(jù)自己需求設定工作參數(shù),；

11. 預濺射：具有全自動控制的預濺射擋板，確保工作過程穩(wěn)定可靠,；

12. 一鍵操作：系統(tǒng)可自動完成抽氣,、充氣、參數(shù)調(diào)整,、預濺射,、濺射鍍膜等工作過程；濺射完成后,，關閉真空泵,，系統(tǒng)自動充氣使真空室內(nèi)外壓力平衡,；

13. 具備濺射電流和真空度雙重互鎖，安全可靠,，任一條件觸發(fā),，系統(tǒng)即可停止工作，防止因為誤操作導致設備損壞,；

14. 系統(tǒng)采用皮拉尼真空規(guī)作為真空測量元件,；

15. 極限真空優(yōu)于1Pa，真空泵抽速為1.1L/s,；

16. 具備實時曲線顯示濺射電流和真空度功能非常方便用戶了解系統(tǒng)工作狀態(tài),；

17. 采用專業(yè)的靶材更換結(jié)構(gòu)，無需任何工具,，即可實現(xiàn)快速更換靶材,；

18. 儀器供電：AC220±10%V，額定功率500W,。