1.GVC-2000磁控離子濺射儀基本無溫升,、樣品表面無熱損失

   

    GVC-2000制樣效果圖                        其他制樣設(shè)備效果圖

上面兩張圖片為濾膜類樣品的電鏡圖片，左側(cè)圖片為GVC-2000噴金后的電鏡觀測(cè)圖,，可以看出,，樣品形貌真實(shí)完整，右側(cè)圖片為其他設(shè)備噴金后的電鏡觀測(cè)圖片,，可以看出,，熱損傷嚴(yán)重，幾乎無法識(shí)別為同種樣品。

濺射儀顆粒更小,，更適宜于高倍圖像觀測(cè),，適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡。


 

                        金顆粒尺寸：6~10nm

 

陶瓷膜,，鍍層材料Pt,，10萬(wàn)倍圖片，無顆粒感   濾膜材料,，鍍層材料Pt,，20萬(wàn)倍圖片，無顆粒感

技術(shù)參數(shù)

靶材尺寸：   57mm

樣品臺(tái)尺寸：  65mm

樣品倉(cāng)尺寸：  130×120mm

GVC-2000磁控離子濺射儀特點(diǎn)：

1,、儀器采用微處理器控制,，自動(dòng)化程度高精確控制、易于操作,；

2,、靶材利用率更高，磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶節(jié)約靶材費(fèi)用,；

3,、金膜顆粒絕大多數(shù)＜10nm，顆粒更細(xì),，均勻度更好,，附著力更強(qiáng)，觀測(cè)效果更佳,；

4,、低電壓、較好真空度下的實(shí)現(xiàn)大電流濺射,，可濺射金,、銀、銅,、鉑等常用金屬靶材,；

5、電子和負(fù)離子被磁場(chǎng)束縛在靶材附近,，鍍膜過程中基本沒有溫升,，適用溫度敏感性樣品；

6,、內(nèi)置用戶使用向?qū)Ш驼f明書,，方便用戶 操作；內(nèi)置膜厚估算公式,，便于用戶了 解離子濺射儀工作狀態(tài),；

7,、采用微處理器控制，擴(kuò)展性能好,，可實(shí)時(shí)顯示真空度,、濺射電流、濺射時(shí)間,、設(shè)備運(yùn)行時(shí)間,、靶材使用時(shí)間等，方便了解設(shè)備情況,，具備過流,、真空保護(hù)功能，安全可靠,。