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單面/雙面掩模對準光刻機的相關知識普及

來源:岱美儀器技術服務(上海)有限公司   2020年09月27日 09:14  
  單面/雙面掩模對準光刻機支持各種標準光刻工藝,,如真空,,硬,,軟接觸和接近式曝光模式,,可選擇背部對準方式,。此外,,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL),。EVG610提供快速處理和重新加工,,以滿足不斷變化的用戶需求,轉換時間不到幾分鐘,。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶,,非常適合大學和研發(fā)應用。

 

  EVG單面/雙面掩模對準光刻機特征:

  1,、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸,。

  2、臺式或獨立式帶防振花崗巖臺面,。

  3,、敏捷的處理和轉換重新加工。

  4,、分步流程指引,。

  5,、遠程技術支持。

  6,、頂部和底部對準功能,。

  7、高精度對準。

  8、自動楔形補償序列,。

  9、電動的和程序控制的曝光間隙,。

  10、支持先進的UV-LED技術,。

  11,、小化系統(tǒng)占地面積和設施要求。

  12,、多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,,可分配的訪問權限,不同語言),。

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