EVG620 NT-掩模對準光刻機系統(tǒng)
- 公司名稱 岱美儀器技術服務(上海)有限公司
- 品牌 EVG
- 型號
- 產地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2025/5/20 13:19:45
- 訪問次數(shù) 6644
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產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工 |
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一,、產品特色
EVG620 NT-掩模對準光刻機系統(tǒng)|接觸式光刻機提供國家的本領域掩模對準技術在小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸,。
二、結構功能
EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,,在小的占位面積上結合了先進的對準功能和優(yōu)化的總體擁有成本,提供了先進的掩模對準技術,。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,,以滿足大批量生產要求和制造標準,。擁有操作員友好型軟件,,短的掩模和工具更換時間以及高效的球服務和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案,。
EVG620 NT或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果,,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,,對深腔進行構圖并形成可比的形貌,,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導體)進行加工,。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術,。
三、EVG620 NT-接觸式光刻機特征
晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6'' | 系統(tǒng)設計支持光刻工藝的多功能性 |
易碎,,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,,更換時間短 | 帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列 |
自動原點功能,,用于對準鍵的確居中 | 具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能 |
支持新的UV-LED技術 | 返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng) |
自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能 | 可以從半自動版本升級到全自動版本 |
小化系統(tǒng)占地面積和設施要求 | 多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,,不同的用戶界面語言) |
先進的軟件功能以及研發(fā)與全面生產之間的兼容性 | 便捷處理和轉換重組 |
遠程技術支持和SECS / GEM兼容性 |
四、附加功能
1.鍵對準
2.紅外對準
3.納米壓印光刻(NIL)
五,、EVG620 NT技術數(shù)據
曝光源 | 汞光源/紫外線LED光源 |
先進的對準功能 | 手動對準/原位對準驗證 |
自動對準 | 動態(tài)對準/自動邊緣對準 對準偏移校正算法 |
EVG620 NT產能 | 全自動:一批生產量:每小時180片 全自動:吞吐量對準:每小時140片晶圓 晶圓直徑(基板尺寸):高達150毫米 |
對準方式 | 上側對準:≤±0.5 µm 底側對準:≤±1,0 µm 紅外校準:≤±2,0 µm /具體取決于基材 鍵對準:≤±2,0 µm NIL對準:≤±3.0 µm |
曝光設定 | 真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式 |
楔形補償 | 全自動軟件控制 |
曝光選項 | 間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光 |
六、系統(tǒng)控制
操作系統(tǒng) | Windows 文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù) |
多語言用戶GUI和支持 | CN,,DE,F(xiàn)R,,IT,,JP,,KR 實時遠程訪問,診斷和故障排除 |
工業(yè)自動化功能 | 盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,,彎曲,翹曲,,邊緣晶圓處理 |
納米壓印光刻技術 | SmartNIL |
七,、機器外形展示
八,、案例展示