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Otsuka大塚液晶層間隙量測設備產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器 有可對應各種尺寸的裝置,，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基板 安全...

Otsuka大塚 液晶層間隙量測設備產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器 有可對應各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基板 安...

Otsuka大塚分光干涉式晶圓膜厚儀易使用即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式,、非破壞...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀 體積小即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式,、非破壞性光...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀高度檢測即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式,、非...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀安裝簡易即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...

Otsuka大塚分光干涉式晶圓膜厚儀即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式,、非破壞性光學...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀省空間即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式,、非破...

Otsuka大塚 多通道光譜儀配件豐富MCPD-6800是用于分光檢測與分析的基本系統(tǒng),。可以瞬間進行分光光譜的測量,也可以通過自由組合的光學系和豐富的配件，搭建...

Otsuka大塚顯微分光膜厚儀 高精度測量 非接觸 · 非破壞 · 顯微、對焦,、測量1秒完成 ● OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏...

Otsuka大塚顯微分光膜厚儀操作簡單非接觸 · 非破壞 · 顯微、對焦,、測量1秒完成 ● OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀,，測...

Otsuka大塚顯微分光膜厚儀高精度 非接觸 · 非破壞 · 顯微、對焦,、測量1秒完成 ● OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀,，測...

Otsuka大塚顯微分光膜厚儀 非接觸 · 非破壞 · 顯微、對焦,、測量1秒完成 ● OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀,，測試膜厚...

Otsuka大塚多通道光譜儀MCPD-9800為瞬間多通道分光器MCPD系列的高級機型，與本公司以往的機型相比,，實現(xiàn)了寬動態(tài)范圍,、低雜散光功能、以及更高速,、更高...

Otsuka大塚多通道光譜儀MCPD-6800是用于分光檢測與分析的基本系統(tǒng)?？梢运查g進行分光光譜的測量,也可以通過自由組合的光學系和豐富的配件,，搭建各式各樣的...

Otsuka大塚 多通道光譜儀MCPD-6800是用于分光檢測與分析的基本系統(tǒng)?？梢运查g進行分光光譜的測量,也可以通過自由組合的光學系和豐富的配件,，搭建各式各樣...

Otsuka大塚 多通道光譜儀應用廣泛MCPD-6800是用于分光檢測與分析的基本系統(tǒng)?？梢运查g進行分光光譜的測量,也可以通過自由組合的光學系和豐富的配件,，搭建...

Otsuka大塚 多通道光譜儀高機型MCPD-9800為瞬間多通道分光器MCPD系列的高級機型，與本公司以往的機型相比,，實現(xiàn)了寬動態(tài)范圍,、低雜散光功能、以及高速...

Otsuka大塚多樣品納米粒子徑測試系統(tǒng)·nanoSAQLA是一臺通過動態(tài)光散亂法（DLS法）測量粒徑（粒徑0.6nm~10um）的裝置,。支持從稀薄到...