當前位置:美薩科技(蘇州)有限公司>>科學儀器>>Otsuka大塚>> Otsuka大塚OPTM seriesOtsuka大塚顯微分光膜厚儀 高精度測量
應用領域 | 電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件 |
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Otsuka大塚顯微分光膜厚儀 高精度測量 非接觸 · 非破壞 · 顯微,、對焦、測量1秒完成 ● OPTM系列顯微分光膜厚儀是一款可替代橢偏儀,,測試膜厚,、折射率n、消光系數k,、絕對反射率的新型高精度,、高性價比的分光膜厚儀。適用于各種可透光膜層的測試,,并有可針對透明基板去除背面反射,,從而達到“真實反射率、膜厚"測試的目的,。此外,,軟件操作簡單、使用方便且簡化了復雜的建模流程,。
Otsuka大塚顯微分光膜厚儀 高精度測量非接觸,、非破壞式,量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內
● 初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式
● 高精度,、高再現性量測紫外到近紅外波段內的絕對反射率,,可分析多層薄膜厚度、光學常數(n:折射率,、k:消光系數)
● 單點對焦加量測在1秒內完成
● 顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)(紫外 ~ 近紅外)
● 獨立測試頭對應各種inline定制化需求
● 最小對應spot約3μm
● 可針對超薄膜解析nk
絕對反射率分析
● 多層膜解析(50層)
● 光學常數(n:折射率,、k:消光系數)
膜或者玻璃等透明基板樣品,受基板內部反射的影響,,無法正確測量,。OPTM系列使用物鏡,可以物理去除內部反射,,即使是透明基板也可以實現高精度測量,。此外,對具有光學異向性的膜或SiC等樣品,,也可不受其影響,,單獨測量上面的膜。
半導體,、復合半導體:硅半導體,、碳化硅半導體、砷化鎵半導體,、光刻膠,、介電常數材料
● FPD:LCD,、TFT、OLED(有機EL)
● 資料儲存:DVD,、磁頭薄膜,、磁性材料
● 光學材料:濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器:液晶顯示器,、薄膜晶體管,、OLED
● 薄膜:AR膜、HC膜,、PET膜等
● 其它:建筑用材料,、膠水、DLC等
各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風扇),、AND愛安得(電子天平),、SAN-EI三英(點膠閥) HOYA光源,KURABO脫泡機,USHIO牛尾照度計,Tsubosaka壺坂電機,IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機,lambda拉姆達膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚(膜厚儀、粒度儀),Hitachi日立(掃描電鏡),MIKASA米卡薩(旋涂設備,、顯影),、POLARION普拉瑞,、AITEC艾泰克(檢查光源),、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子(光學膜厚儀),、KOSAKA小坂(臺階儀),、HORIBA堀場儀器(分析儀)、SIBATA柴田科學(環(huán)境測定),、TORAY東麗濃度儀(氧氣分析儀),、yamada山田鹵素強光燈、CEDAR思達
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