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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,，可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導(dǎo)電薄膜,、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜,、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、聚四氟乙烯薄膜等

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜,、導(dǎo)電薄膜,、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜,、陶瓷薄膜,、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜,、氧化物薄膜,、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,。VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀配置三個(gè)靶槍,，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜,。與同類設(shè)備相比,，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及 OLED 等。

產(chǎn)品名稱	VTC-600-3HD 三靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號(hào)	VTC-600-3HD
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下,，溫度 25℃±15℃ ,，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。
安裝條件	1,、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2,、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3,、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度 99.99%以上）,，需自備氬氣氣瓶（自帶 Ø6mm 雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺(tái)：尺寸 1500mm×600mm×700mm ,，承重 200kg 以上 5,、通風(fēng)裝置：需要
主要特點(diǎn)	1 、配置三個(gè)靶槍,，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,，兩個(gè)配套直流電源用于導(dǎo) 電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調(diào)換）。 2,、可制備多種薄膜,，應(yīng)用廣泛。 3、體積小,，操作簡(jiǎn)便,。 4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),，真空腔室,、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整,。 5、可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,，也可多個(gè)電源單一控制靶槍。
技術(shù)參數(shù)	1,、電源電壓： 220V 50Hz 2,、總功率：＜2.5KW 3、極限真空度： < E-6mbar （配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到E-5mbar） 4,、工作溫度： RT-500℃,，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） 5、靶槍數(shù)量： 3 個(gè) 6,、靶槍冷卻方式：水冷 7 ,、靶材尺寸： Ø2″ ，厚度 0.1mm-5mm （因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 8,、直流濺射功率： 500W （可選） 9,、射頻濺射功率： 300W/500W （可選） 10、載樣臺(tái)： Ø140mm 11,、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速： 1rpm-20rpm 內(nèi)可調(diào) 12,、保護(hù)氣體： Ar 、N2 等惰性氣體 13,、進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制 2 路進(jìn)氣， 1 個(gè)流量為 100 SCCM ,，1 個(gè)流量為 200 SCCM

產(chǎn)品規(guī)格

主機(jī)尺寸： 500mm ×560mm×660mm ,，整機(jī)尺寸： 1300mm ×660mm×1200mm；

重量： 160kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

直流電源控制系統(tǒng)

2 套

	2	射頻電源控制系統(tǒng)	1 套
	3	膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)	1 套
	4	分子泵（德國(guó)進(jìn)口）	1 臺(tái)
	5	冷水機(jī)	1 臺(tái)
	6	冷卻水管（Ø6mm）	4 根
可選配件	金,、銦,、銀、鉑等各種靶材